Taille et part du marché des équipements de métrologie lithographique – 2034

Lithographie Métrologie Équipement Taille du marché

Le marché mondial des équipements de métrologie de lithographie a été évalué à 755 millions de dollars en 2024 et devrait croître de 7,4 % entre 2025 et 2034.

L'avancement de la technologie des semi-conducteurs est un facteur clé de la croissance de l'équipement de métrologie de lithographie, car les fabricants se tournent vers des nœuds plus efficaces et plus petits tels que 5 ou 7 nanomètres. Le développement de technologies de pointe, y compris la lithographie ultraviolet (EUV), est devenu essentiel pour produire des puces à haute performance avec une densité accrue de transistors. Ces innovations nécessitent des systèmes de métrologie précis afin d'assurer la précision de la configuration, de minimiser les défauts et d'optimiser le rendement.

À mesure que la complexité des processus de semi-conducteur augmente, la demande de matériel de métrologie de pointe augmente pour soutenir des normes de production rigoureuses et répondre aux besoins en évolution des semi-conducteurs. Par exemple, Hitachi High-Tech a développé GT2000 à 8600, un équipement de métrologie à faisceaux d'électrons fins pour des dispositifs à semi-conducteurs complexes, le système de métrologie GT-2000 a été développé au niveau requis par le marché. Cette GT2000 est aujourd'hui très demandée et comme de plus en plus d'entreprises de l'industrie des semi-conducteurs ont besoin de systèmes informatiques, les systèmes de métrologie Heidenhain et Tevel contribuent à la croissance du marché.

La demande croissante de l'électronique grand public a stimulé la croissance du marché des équipements de métrologie lithographique. La tendance croissante à la miniaturisation et une plus grande efficacité pour la fourniture de fonctionnalités de nouvelle génération poussent les fabricants à améliorer leurs systèmes de lithographie pour augmenter la densité et la performance des circuits intégrés compacts (IC). L'équipement métrologique joue un rôle essentiel dans la précision des motifs et le contrôle de la qualité pendant la photolithographie.

Tendances du marché des équipements de métrologie

Le marché des mesures lithographiques évolue à mesure que les grands consommateurs de B2B, comme les fabricants de semi-conducteurs ou les instituts de recherche, adoptent de nouveaux systèmes de mesure avancés pour mesurer la haute précision dans la fabrication de semi-conducteurs. Les dernières innovations dans les matériaux tels que les photomasques ultraviolets et les technologies de mesure telles que les microscopes à force atomique (AFM) et les dimensions critiques optiques (OCD) sont à l'origine du progrès industriel. En outre, l'industrie met l'accent sur des questions de durabilité telles que la réduction de la consommation d'énergie, l'amélioration de l'efficacité des équipements et la réduction de l'impact global des concepts et matériaux verts sur l'environnement.

Analyse du marché des équipements de métrologie

Le marché des équipements de métrologie lithographique a certaines limites, telles que le coût élevé des systèmes de mesure avancés, l'adoption de nouvelles technologies dans les lignes de production existantes et la réadoption de règlements en matière de gouvernance environnementale et de traitement des déchets dangereux. D'autre part, l'introduction de dispositifs semi-conducteurs miniatures, de la technologie 5G et des industries de l'IA et de l'apprentissage des machines offre des possibilités uniques. En outre, les organismes de réglementation soutiennent de plus en plus des solutions innovantes pour la durabilité, ainsi que la nécessité évidente de nouvelles technologies qui assurent la fabrication efficace et précise des composants.

Basé sur la technologie, le marché est divisé en métrologie optique, microscopie électronique à balayage de dimension critique (CD-SEM), métrologie en superposition, microscopie de force atomique (AFM) et scatterométrie. Le segment de la microscopie électronique à balayage de dimension critique (CD-SEM) devrait atteindre 451,1 millions de dollars d'ici 2034.

• La métrologie optique occupe la plus grande part du marché des équipements de métrologie de lithographie en raison de sa mesure rapide et sans contact qui est avantageuse pour les semi-conducteurs produisant en masse. Des paramètres tels que la largeur de la ligne et la précision de la superposition sont activement mesurés au moyen de techniques optiques telles que la réflectométrie et l'interférométrie. La montée en puissance de l'utilisation de la lithographie EUV comme technique de fabrication avancée a accru le besoin d'utiliser la métrologie optique, car elle est un outil utile pour fournir des solutions en temps réel à des étapes critiques lorsque la haute précision est nécessaire pendant les processus de fabrication.
• Le CD-SEM est crucial dans la production de semi-conducteurs en raison de ses mesures précises à l'échelle nanométrique. Ce matériel est largement utilisé dans l'inspection des structures nanométriques, des modèles de lithographie et des modèles de masque. La modernisation continue de l'industrie des semi-conducteurs entraîne une demande croissante d'outillage CD-SEM avec un débit, une résolution et une automatisation accrus. Il offre un contrôle dimensionnel supérieur dans les nœuds de processus avancés et est largement accepté dans les usines de semi-conducteurs.

Basé sur des applications, le marché est divisé en la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de panneaux plats (FPD), MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), la fabrication de LED et autres. Le segment de fabrication de panneaux plats (FPD) est le segment qui connaît la croissance la plus rapide avec un TCAC de 8,6% entre 2025 et 2034.

• La fabrication de semi-conducteurs est le segment d'application le plus important du marché de l'équipement de métrologie de lithographie qui est motivé par la demande d'appareils plus petits, plus rapides et plus efficaces. Avec la tendance des nœuds de processus plus petits comme les valeurs de 7nm, 5nm, et de gamme inférieure, les outils de métrologie doivent être beaucoup plus sophistiqués pour assurer le contrôle des dimensions critiques, la précision de recouvrement, et les propriétés du matériau sont en contrôle. La lithographie EUV et la métrologie multipatterning présentent certaines des complexités les plus élevées pour s'assurer que le rendement des appareils répond aux normes requises. Ce segment de croissance de l'innovation est lié à l'innovation dans les systèmes de métrologie comme AI 5G, et IoT dans les technologies semi-conducteurs.
• L'équipement de métrologie lithographique a acquis une grande traction à mesure que l'industrie se déplace vers des écrans plus grands avec une plus grande résolution et des performances pendant la production d'écrans plats (FPD). L'épaisseur de la couche, la micro-résolution et la précision d'alignement doivent être dans la plage optimale pour faciliter la qualité des procédés à mesure que l'utilisation des technologies OLED et micro-LED augmente. Le besoin croissant de téléviseurs haute définition, de smartphones haut de gamme et d'autres appareils accélère le développement de méthodes de métrologie précises pour contrôler l'uniformité et les défauts d'affichage pendant la fabrication, en particulier à la lumière des tendances futures vers des écrans plus grands et un pixel plus grand.

Les États-Unis ont dominé le marché des équipements de métrologie de lithographie en Amérique du Nord en 2024, représentant une part de 87,4 %.

Le marché américain est prêt à croître en raison de sa capacité de fabrication de semi-conducteurs de pointe et d'infrastructure de R-D. De plus, les travaux de restauration des outils de métrologie des nœuds avancés sont menés par des sociétés de semi-conducteurs à plusieurs niveaux et des fabs versent de l'argent en nœuds 5nm et moins. Le marché est également fortement développé par les mises en œuvre rapides de la lithographie EUV et l'accent croissant mis sur les emballages 3D. Un financement important dans les technologies de l'IA, de l'IoT et de la 5G continue de stimuler la croissance des solutions de métrologie avancées.

Le marché indien est en forte augmentation alimenté par des initiatives telles que la campagne « Make in India » du gouvernement et l'augmentation des investissements étrangers dans l'industrie des semi-conducteurs. La demande croissante d'électronique en Inde et l'accent mis sur la fabrication de circuits intégrés contribuent de façon importante au marché spécifique. Le développement de semi-conducteurs offre davantage de possibilités aux fournisseurs d'équipements de métrologie spécialisés, bien que l'insuffisance des infrastructures reste problématique. L'augmentation de la consommation d'électronique et de semi-conducteurs à base d'automobiles devrait également favoriser le marché.

Le marché chinois des équipements de métrologie de lithographie est propulsé par d'importants investissements dans la production de semi-conducteurs alors que le pays tente d'atteindre l'autosuffisance technologique. De plus grandes quantités de copeaux augmentent leurs capacités de production pour satisfaire les marchés locaux et étrangers des puces, ce qui conduit à une plus grande acceptation des outils de mesure plus sophistiqués. Des programmes soutenus par le gouvernement et des incitatifs financiers aident les fabricants locaux d'équipement et les entrepreneurs technologiques. En outre, la position robuste de la Chine sur le marché de l'électronique de consommation et les technologies 5G augmentent les perspectives de croissance du marché.

L'industrie de l'équipement de métrologie de la Corée du Sud est principalement soutenue par la position du pays en tant que premier producteur de semi-conducteurs de mémoire, les grandes entreprises dépensant des nœuds avancés et la technologie de lithographie de l'EUV. Le marché est fortement stimulé par l'utilisation de puces flash DRAM et NAND pour l'électronique grand public et l'infrastructure 5G. L'augmentation des dépenses en capital consacrées à la fabrication en volume élevé et au contrôle de la qualité crée de nouvelles possibilités de croissance de la technologie de métrologie. La position de la Corée du Sud à l'avant-garde de la technologie des semi-conducteurs garantit une croissance constante de la consommation d'équipements avancés.

Japon Le marché des équipements de métrologie de lithographie est renforcé par la vaste expérience du pays dans la production d'équipements semi-conducteurs et l'ingénierie de précision. L'investissement du pays dans de nouveaux outils de métrologie avancés par des semi-conducteurs est destiné à améliorer la précision et à réduire les défauts dans les processus d'emballage et de lithographie avancés. Grâce à la riche structure industrielle japonaise, développée autour de l'électronique de consommation et des applications automobiles, l'offre de puces semi-conducteurs augmente toujours. Leur collaboration active avec des entreprises internationales améliore leur position sur le marché des équipements de métrologie.

Part du marché des équipements de métrologie

La concurrence sur le marché du segment des outils de métrologie lithographique est principalement influencée par les progrès technologiques, les caractéristiques des produits et l'unicité. Les principaux fabricants visent à fournir de nouvelles solutions de mesure pour répondre aux besoins changeants des fabricants de semi-conducteurs. Toutefois, les coûts des produits sont également importants, en particulier dans les applications sensibles aux prix, tandis que les entreprises utilisent souvent des suppléments de haute technologie, tels que les VUE et les systèmes de métrologie optique. Les réseaux de distribution et les services à la clientèle sont également des facteurs importants pour les fabricants qui recherchent une assistance mondiale fiable. À l'avenir, en raison des tendances technologiques, la concurrence pour des options plus robustes et verticalement différenciées sera faible.

Lithographie Métrologie Équipement Marché Entreprises

Les principaux acteurs de l'industrie de la métrologie lithographique sont:

• ASML Holding NV
• Société Nikon
• Groupe EV
• Matériaux appliqués Inc
• ALK Société
• Sur l'innovation
• Canon Inc.
• Hitachi High-Tech Corporation
• Thermo Fisher Scientific Inc.

Lithographie Métrologie Équipement Nouvelles de l'industrie

• En novembre 2023, l'ASML a élargi sa présence en Chine et installé près de 1 400 machines de lithographie et de métrologie, ce qui reflète le rôle de l'ASML dans l'industrie chinoise des semi-conducteurs. L'entreprise a élargi sa capacité de production et vise à produire de 500 à 600 machines UV (UVD) annuellement.
• En mars 2023, Tech a annoncé qu'elle obtiendrait un financement de la série A de Intel Capital pour accélérer le développement d'équipements de mesure de lithographie pour la fabrication de semi-conducteurs. Le financement permettra d'améliorer la gamme de produits de ses inspecteurs de la demande de masque de VUE et de ses réflecteurs. À mesure que la demande se concentre sur la lithographie de l'EUV, la technologie de l'EUV demeure un moteur de fabrication à haut volume et stimule les approches de changement de paradigme en matière de technologie de fabrication de puces.
• En mars 2023 Picarro a dévoilé SLiM 100 Lithographie Process Tool Monitoring System un outil de mesure chimique de 1ppb qui peut surveiller les COV en temps réel dans les usines de semi-conducteurs. En détectant les contaminants moléculaires dans l'air, le système améliore la gestion des processus en minimisant les défauts et en maximisant la production. Cela permet de résoudre rapidement les problèmes et minimise la quantité d'outils de lithographie et leur temps d'arrêt.

Ce rapport d'étude de marché sur les équipements de métrologie de lithographie couvre en profondeur l'industrie avec des estimations et des prévisions en termes de recettes (milliards de dollars) et de volume (unités) de 2021 à 2034, pour les segments suivants:

Marché, par technologie

• Métrologie optique
• Microscopie électronique à balayage de dimension critique (CD-SEM)
• Métrologie en superposition
• Microscopie de la force atomique (AFM)
• Scattérométrie

Marché, par produit

• Matériel de contrôle des produits chimiques
• Matériel de contrôle du gaz
• Autres

Marché, par processus

• Bord
• Nuage

Marché, par demande

• Fabrication de semi-conducteurs
• Fabrication d'écran plat (FPD)
• MEMS (Systèmes micro-électromécaniques)
• Fabrication de LED
• Autres

Marché, par industrie utilisatrice finale

• Fabricants de dispositifs intégrés
• Fonderies

Les informations ci-dessus sont fournies pour les régions et les pays suivants:

• Amérique du Nord
  • États-Unis
  • Canada
• Europe
  • Royaume Uni
  • Allemagne
  • France
  • Italie
  • Espagne
  • Russie
• Asie-Pacifique
  • Chine
  • Inde
  • Japon
  • Corée du Sud
  • Australie
• Amérique latine
  • Brésil
  • Mexique
• MEA
  • EAU
  • Arabie saoudite
  • Afrique du Sud