リソグラフィー用計測装置市場 サイズとシェア 2025 – 2034

リソグラフィ計測装置市場規模

世界のリソグラフィ計測装置市場は、2024年に 7億5,500万米ドルに達し、2025年から2034年にかけて年平均成長率（CAGR）7.4%で成長すると推定されている。
 

半導体技術の進歩は、リソグラフィ計測装置市場の成長を促す主要因である。半導体メーカーは、5ナノメートルや7ナノメートルなど、より効率的で微細なノードへの移行を進めている。極端紫外線（EUV）リソグラフィをはじめとする最先端技術の開発は、トランジスタ密度を高めた高性能チップの製造に不可欠となっている。こうした技術革新には、パターン形成の精度を確保し、欠陥を最小限に抑え、歩留まりを最適化するための高精度な計測システムが必要である。
 

半導体プロセスの複雑化に伴い、厳格な生産基準への対応と、進化する半導体ファブのニーズを満たすため、先進的なリソグラフィ計測装置に対する需要が拡大している。例えば、Hitachi High-Techは、複雑な半導体デバイス向けの微細電子ビーム計測装置であるGT2000 to 8600を開発し、市場が求める水準に対応するGT-2000計測システムを開発した。このGT2000は現在高い需要を集めており、半導体業界でIT、Heidenhain、Tevelの計測システムを必要とする企業が増えるにつれて、市場の成長に寄与している。
 

民生用電子機器に対する需要の高まりも、リソグラフィ計測装置市場の成長を一段と後押ししている。次世代機能を実現するための小型化と高効率化の進展を背景に、メーカーは小型集積回路（IC）の集積度と性能を高めるべく、リソグラフィシステムのアップグレードを進めている。計測装置は、フォトリソグラフィ工程におけるパターン精度と品質管理の確保において重要な役割を果たしている。 
 

リソグラフィ計測装置市場の動向

半導体メーカーや研究機関などの主要なB2B需要家が、半導体製造における高精度測定を実施するため、新たな先進計測システムを導入するなか、リソグラフィ計測市場は変化している。紫外線フォトマスクなどの材料や、原子間力顕微鏡（AFM）や光学的クリティカルディメンション（OCD）などの計測技術における最新の革新が、産業の発展を促している。さらに、業界では、エネルギー消費量の削減、装置効率の向上、環境配慮型の概念や材料が環境に与える全体的な影響の低減など、持続可能性に関する課題に注力している。
 

リソグラフィ計測装置市場の分析

リソグラフィ計測装置市場には、先進計測システムの高コスト、既存の生産ラインへの新技術の導入、環境ガバナンスや有害廃棄物処理に関する規制の再導入など、一定の制約がある。一方、小型半導体デバイス、5G技術、AIおよび機械学習を中心とする産業の登場は、独自の機会をもたらしている。加えて、規制当局は持続可能性に向けた革新的なソリューションをますます支援しており、部品の効率的かつ正確な製造を可能にする新技術の必要性も明確になっている。
 

主要な市場動向を把握するには

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技術別に見ると、市場は光学計測、クリティカルディメンション走査型電子顕微鏡（CD-SEM）、オーバーレイ計測、原子間力顕微鏡（AFM）、散乱計測に分類されます。クリティカルディメンション走査型電子顕微鏡（CD-SEM）セグメントは、2034年までに 4億5,110万米ドルの規模に達すると予測されています。
 

• 光学計測は、半導体の量産に適した高速かつ非接触の測定が可能であることから、リソグラフィー計測装置市場で最大のシェアを占めています。線幅やオーバーレイ精度などのパラメーターは、反射率測定や干渉計測といった光学技術を用いて積極的に測定されています。先進的な製造技術として EUV リソグラフィーの利用が急増したことで、光学計測の必要性も高まっています。これは、製造工程で高精度が求められる重要な段階において、リアルタイムのソリューションを提供する有用なツールです。
   
• CD-SEM は、ナノスケールでの精密な測定が可能であるため、半導体生産において重要な役割を果たしています。この装置は、ナノスケール構造、リソグラフィーパターン、マスクパターンの検査に広く使用されています。半導体業界で近代化が進むなか、スループット、解像度、自動化性能に優れた CD-SEM ツールの需要が増加しています。先端プロセスノードにおいて優れた寸法制御を実現できることから、半導体工場で広く採用されています。
   

用途別に見ると、市場は半導体製造、フラットパネルディスプレイ（FPD）製造、MEMS（微小電気機械システム）、LED 製造、その他に分類されます。フラットパネルディスプレイ（FPD）製造セグメントは、2025年から2034年にかけて年平均成長率（CAGR）8.6%で成長する最速成長セグメントです。
 

• 半導体製造は、より小型で高速かつ高効率なデバイスへの需要に牽引される、リソグラフィー計測装置市場で最大の用途セグメントです。7nm、5nmおよびそれ以下のプロセスノードのように微細化が進むなか、クリティカルディメンション、オーバーレイ精度、材料特性を適切に管理するため、計測ツールにはより高度な性能が求められています。EUV リソグラフィーやマルチパターニング計測は、デバイスの歩留まりを必要な基準に適合させるため、最も複雑度の高い技術の一部です。このセグメントのイノベーションと成長は、半導体技術における AI、5G、IoT などの計測システムの革新と密接に結び付いています。
   
• フラットパネルディスプレイ（FPD）の生産では、より大きく、高解像度で高性能な画面への移行が進んでおり、リソグラフィー計測装置の採用が大きく拡大しています。OLED やマイクロ LED 技術の利用が増加するなか、工程品質を確保するには、層厚、マイクロ解像度、アライメント精度を最適な範囲内に維持する必要があります。高精細テレビ、高機能スマートフォンなどの機器に対する需要の増加により、製造時のディスプレイ均一性や欠陥を管理する精密な計測手法の開発が加速しています。特に、今後は画面の大型化と画素サイズの拡大が進むと見込まれています。
   

この市場を形成する主要なセグメントについて詳しく知る

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米国は2024年に北米のリソグラフィー計測装置市場をリードし、87.4%のシェアを占めました。
 

米国市場は、先端半導体製造能力と研究開発（R&D）インフラを有することから、成長が見込まれている。さらに、5nm以下のノードに大規模な投資を行う大手半導体企業やファウンドリーが、先端ノード向け計測ツールの導入・整備を推進している。EUVリソグラフィーの急速な導入や3Dパッケージングへの関心の高まりも、市場の発展を大きく後押ししている。AI、IoT、5G技術への大規模な資金投入も、先端計測ソリューションの成長を引き続き促進している。
 

インド市場は、政府による「メイク・イン・インディア」キャンペーンや、半導体産業への海外投資の増加を背景に、堅調な上昇基調にある。電子機器に対する需要の増加と集積回路（IC）製造への注力が、同市場の主要な成長要因となっている。半導体ファウンドリーの開発により、専門的な計測機器プロバイダーに新たな機会が生まれているものの、不十分なインフラは依然として課題である。電子機器および自動車向け半導体の消費拡大も、市場をさらに押し上げると予想される。
 

中国のリソグラフィー計測機器市場は、同国が技術的自立の達成を目指すなか、半導体生産への大規模な投資によって成長している。大規模なファウンドリーは、国内外の半導体市場の需要を満たすために生産能力を拡大しており、これにより、より高度な計測ツールの採用が進んでいる。政府が支援するプログラムや財政的インセンティブは、国内の機器メーカーやテクノロジー起業家を支援している。さらに、民生用電子機器市場および5G技術における中国の強固な地位が、市場の成長見通しを高めている。
 

韓国のリソグラフィー計測機器業界は、主に同国がメモリー半導体の主要生産国であることに支えられている。大手企業は先端ノードやEUVリソグラフィー技術に投資している。民生用電子機器や5GインフラにおけるDRAMおよびNANDフラッシュチップの利用が、市場を大きく押し上げている。大量生産および品質管理への設備投資の増加は、計測技術の成長に新たな機会をもたらしている。韓国は半導体技術の最前線に位置しており、先端機器の消費が継続的に拡大すると見込まれる。
 

日本のリソグラフィー計測機器市場は、半導体製造装置の生産と精密工学における同国の豊富な経験によって支えられている。半導体ファウンドリーによる新たな先端計測ツールへの投資は、先端パッケージングおよびリソグラフィープロセスの精度向上と欠陥低減を目的としている。民生用電子機器や自動車用途を中心に発展した日本の充実した産業基盤を背景に、半導体チップの供給は常に拡大している。日本企業は国際企業との積極的な協業により、計測機器市場における地位を高めている。
 

リソグラフィー計測機器市場のシェア

リソグラフィー計測ツール分野の市場競争は、主に技術の進歩、製品特性および独自性の影響を受けている。主要メーカーは、半導体メーカーの変化するニーズに対応するため、新たな計測ソリューションの提供を目指している。一方、特に価格に敏感な用途では製品コストも重要であり、企業はEUVや光学計測システムなどのハイテク技術を搭載した製品を用いることが多い。信頼性の高いグローバルなサポートを求めるメーカーにとって、販売ネットワークと顧客サービスも重要な要素である。今後は技術動向を背景に、より堅牢で垂直方向に差別化された選択肢をめぐる競争は低水準にとどまると予想される。
 

リソグラフィー計測機器市場の主要企業

リソグラフィ計測装置業界で事業を展開する主要企業は以下のとおりです。

• ASML Holding NV
• Nikon Corporation
• EV Group
• Applied Materials Inc
• KLA Corporation
• Onto innovation
• Canon Inc.
• Hitachi High-Tech Corporation
• Thermo Fisher Scientific Inc.
   

リソグラフィ計測装置業界のニュース

• 2023年11月、ASMLは中国でのプレゼンスを拡大し、約 1,400 台のリソグラフィ装置および計測装置を設置しました。これは、中国の半導体業界における ASML の役割を示すものです。同社は生産能力を拡大し、年間 500〜600 台の深紫外線（UVD）装置を生産することを目標としています。
   
• 2023年3月、EUV Techは、半導体製造向けリソグラフィ計測装置の開発を加速するため、Intel CapitalからシリーズAの資金調達を行うと発表しました。この資金調達により、同社のEUVマスク欠陥検査装置およびリフレクター製品のラインアップが強化されます。EUVリソグラフィへの需要が高まるなか、EUV技術は依然として大量生産を可能にする技術であり、半導体製造技術におけるパラダイムシフトを促進しています。
   
• 2023年3月、Picarroは、半導体工場で揮発性有機化合物（VOC）をリアルタイムで監視できる、化学物質を 1 ppb 単位で測定するリソグラフィプロセス装置監視システム「SLiM 100」を発表しました。空気中の分子汚染物質を検出することで、このシステムは欠陥を最小限に抑え、生産量を最大化し、プロセス管理を強化します。これにより、問題を迅速に解決できるほか、リソグラフィ装置の生産停止時間およびダウンタイムを最小限に抑えられます。
   

このリソグラフィ計測装置市場調査レポートは、以下のセグメントについて、2021年から2034年までの売上高（10億米ドル／100万米ドル）および数量（台数）に関する推計と予測を含む、業界の詳細な分析を提供しています。

技術別市場

• 光学計測
• クリティカルディメンション走査型電子顕微鏡（CD-SEM）
• オーバーレイ計測
• 原子間力顕微鏡（AFM）
• 散乱計測

製品別市場

• 化学制御装置
• ガス制御装置
• その他

プロセス別市場

• エッジ
• クラウド

用途別市場

• 半導体製造
• フラットパネルディスプレイ（FPD）製造
• MEMS（微小電気機械システム）
• LED製造
• その他

最終用途業界別市場

• 統合デバイスメーカー（IDM）
• ファウンドリー

上記の情報は、以下の地域および国を対象としています。

• 北米
  • 米国
  • カナダ
• 欧州
  • 英国
  • ドイツ
  • フランス
  • イタリア
  • スペイン
  • ロシア
• アジア太平洋
  • 中国
  • インド
  • 日本
  • 韓国
  • オーストラリア 
• ラテンアメリカ
  • ブラジル
  • メキシコ
• 中東・アフリカ（MEA）
  • アラブ首長国連邦
  • サウジアラビア
  • 南アフリカ