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光刻计量设备市场 尺寸和份额 2025-2034

报告 ID: GMI12927
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发布日期: January 2025
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光刻计量设备市场规模

2024年,全球光刻计量设备市场规模为7.55亿美元,预计2025年至2034年的复合年增长率(CAGR)为7.4%。
 

光刻计量设备市场核心要点

2024年市场规模
7.55亿美元
2034年预测市场规模
15亿美元
复合年增长率(CAGR)(2025—2034年)
7.4%
主要企业
  • ASML Holding NV, Advantest Corporation, Applied Materials Inc, Canon Inc., Carl Zeiss SMT, EV Group, Hitachi High-Tech Corporation, Holon co Ltd., KLA Corporation, KLA-Tencor, LAM Research, Nikon Corporation, Nova Measuring Instruments Ltd., Onto innovation, Thermo Fisher Scientific Inc.
主要市场增长驱动因素
  • 半导体技术进步
  • 消费电子需求不断增长
  • 5G和人工智能(AI)应用不断发展
挑战
  • 先进计量设备成本高
  • 先进制程节点的测量复杂

半导体技术的进步是推动光刻计量设备市场增长的主要因素,因为制造商正转向效率更高、尺寸更小的制程节点,例如5纳米或7纳米节点。包括极紫外(EUV)光刻在内的尖端技术不断发展,这对于制造晶体管密度更高的高性能芯片至关重要。这些创新需要精密的计量系统,以确保图形化精度、减少缺陷并优化良率。
 

随着半导体工艺日趋复杂,对先进光刻计量设备的需求不断增长,以满足严格的生产标准和半导体晶圆厂不断变化的需求。例如,Hitachi High-Tech已开发出GT2000至8600系列,用于复杂半导体器件的精细电子束计量设备;GT-2000计量系统的开发达到了市场所需的水平。目前,GT2000需求旺盛;随着半导体行业内更多企业需要IT,Heidenhain和Tevel计量系统也推动了市场增长。
 

消费电子产品需求不断增长,进一步推动了光刻计量设备市场的发展。为实现下一代功能,产品正朝着小型化和更高效率的方向发展,这促使制造商升级光刻系统,以提高紧凑型集成电路(IC)的密度和性能。计量设备在光刻过程中确保图形精度和质量控制方面发挥着重要作用。 
 

光刻计量设备市场趋势

随着半导体制造商或研究机构等主要B2B消费者采用新的先进测量系统,以实现半导体制造中的高精度测量,光刻测量市场正在发生变化。材料领域的最新创新(例如紫外光掩模),以及原子力显微镜(AFM)和光学关键尺寸(OCD)等测量技术,正推动行业发展。此外,该行业正聚焦于可持续发展问题,例如降低能耗、提高设备效率,以及减少绿色理念和材料对环境的总体影响。
 

光刻计量设备市场分析

光刻计量设备市场面临一些制约因素,例如先进测量系统成本高昂、在现有生产线上采用新技术,以及在环境治理和危险废物处理方面重新采纳相关法规。另一方面,微型半导体器件、5G技术以及以人工智能和机器学习为导向的行业不断发展,为市场带来了独特机遇。此外,监管机构日益支持可持续发展创新解决方案,同时,市场也明确需要能够确保零部件高效、精确制造的新技术。
 

光刻计量设备市场,按技术划分,2021—2034年(百万美元)
光刻计量设备市场,按技术划分,2021—2034年(百万美元)

按技术划分,市场分为光学计量、关键尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)、套刻计量、原子力显微镜(AFM)和散射测量。关键尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)细分市场预计到2034年将达到4.511亿美元。
 

  • 光学计量在光刻计量设备市场中占据最大份额,这得益于其测量速度快且无需接触样品,有利于半导体的大规模生产。线宽和套刻精度等参数通常通过反射测量和干涉测量等光学技术进行主动测量。随着EUV光刻作为先进制造技术的应用日益广泛,光学计量的需求也随之增加,因为在制造过程中需要高精度的关键阶段,它能够提供实时解决方案。
     
  • CD-SEM对于半导体生产至关重要,因为它能够进行精确的纳米级测量。该设备广泛用于检测纳米级结构、光刻图形和掩模图形。半导体行业持续升级,推动市场对更高吞吐量、更高分辨率和更高自动化水平的CD-SEM设备的需求不断增长。它能为先进制程节点提供卓越的尺寸控制能力,并已在半导体工厂得到广泛应用。
     
光刻计量设备市场收入份额,按应用划分,2024年
光刻计量设备市场收入份额,按应用划分,2024年

按应用划分,市场分为半导体制造、平板显示器(FPD)制造、微机电系统(MEMS)、LED制造及其他领域。平板显示器(FPD)制造细分市场增长最快,2025年至2034年的复合年增长率为8.6%。
 

  • 半导体制造是光刻计量设备市场中最大的应用细分领域,其增长由市场对更小、更快、更高效器件的需求推动。随着制程节点向7nm、5nm及更低水平发展,计量工具需要更加先进,以确保关键尺寸、套刻精度和材料特性得到有效控制。EUV光刻和多重图形化计量的复杂程度极高,以确保器件良率达到要求标准。该细分领域的创新增长与计量系统的创新密切相关,例如半导体技术中的AI、5G和物联网(IoT)。
     
  • 随着行业转向生产尺寸更大、分辨率和性能更高的平板显示器(FPD),光刻计量设备的应用日益广泛。随着OLED和Micro-LED技术的应用不断增加,必须将层厚、微观分辨率和对准精度控制在最佳范围内,以确保工艺质量。市场对高清电视、高端智能手机及其他设备的需求不断增长,正推动精密计量方法的发展,以便在制造过程中控制显示均匀性和缺陷;随着未来屏幕尺寸增大、像素尺寸增大的趋势,这一点尤为重要。
     
美国光刻计量设备市场规模,2021—2034年(百万美元)
美国光刻计量设备市场规模,2021—2034年(百万美元)

2024年,美国在北美光刻计量设备市场占据主导地位,市场份额为87.4%。
 

美国市场凭借先进半导体制造能力和研发基础设施,有望实现增长。此外,顶尖半导体企业和晶圆厂向5纳米及以下制程节点投入大量资金,推动了先进制程节点计量工具的改进。EUV光刻的快速应用以及对3D封装日益重视,也在大力推动市场发展。对人工智能、物联网和5G技术的大量投资,持续推动先进计量解决方案市场增长。
 

在印度,政府发起的“印度制造”计划以及半导体行业外资不断增加,推动市场稳步增长。印度电子产品需求持续增长,并重视集成电路制造,这些都是该市场发展的主要动力。半导体晶圆厂的建设为专业计量设备供应商创造了更多机遇,但基础设施不足仍是一个问题。电子产品和汽车半导体消费量的增加预计也将进一步推动市场发展。
 

随着中国努力实现科技自给自足,对半导体生产的大量投资推动了中国光刻计量设备市场的发展。大型晶圆厂正扩大产能,以满足国内外芯片市场的需求,从而推动了更先进测量工具的普及。政府支持的计划和财政激励措施为本土设备制造商和技术创业者提供助力。此外,中国在消费电子市场和5G技术领域的强劲地位,也提升了市场的增长前景。
 

韩国光刻计量设备行业主要受益于韩国作为领先存储半导体生产国的地位,主要企业正加大对先进制程节点和EUV光刻技术的投入。消费电子产品和5G基础设施对DRAM和NAND闪存芯片的应用,为市场带来强劲推动力。对高产量制造和质量控制的资本支出不断增加,为计量技术创造了新的增长机遇。韩国在半导体技术领域处于前沿地位,确保了先进设备需求持续增长。
 

日本光刻计量设备市场受益于日本在半导体设备生产和精密工程领域的丰富经验。半导体晶圆厂投资采购新型先进计量工具,旨在提高先进封装和光刻工艺的精度并减少缺陷。日本拥有以消费电子和汽车应用为基础的丰富产业体系,半导体芯片供应因此持续增长。日本与国际企业积极合作,提升了其在计量设备市场中的地位。
 

光刻计量设备市场份额

光刻计量工具细分市场的竞争主要受技术进步、产品特性和独特性影响。主要制造商致力于提供新的测量解决方案,以满足半导体制造商不断变化的需求。不过,产品成本也很重要,尤其是在对价格敏感的应用领域;与此同时,企业通常会采用高科技配套产品,例如 EUV 和光学计量系统。对于寻求可靠全球支持的制造商而言,分销网络和客户服务也是重要因素。未来,受技术趋势影响,功能更强、垂直差异化程度更高的产品选项之间的竞争将较弱。
 

光刻计量设备市场企业

光刻计量设备行业的主要企业包括:

  • ASML Holding NV
  • Nikon Corporation
  • EV Group
  • Applied Materials Inc
  • KLA Corporation
  • Onto innovation
  • Canon Inc.
  • Hitachi High-Tech Corporation
  • Thermo Fisher Scientific Inc.
     

光刻计量设备行业新闻

  • 2023年11月,ASML 扩大了在中国的业务布局,并安装了近1,400台光刻和计量设备,体现了 ASML 在中国半导体行业中的作用。该公司扩大了产能,计划每年生产500至600台深紫外光刻机(UVD)。
     
  • 2023年3月,EUV Tech 宣布将获得 Intel Capital 的 A 轮融资,以加快半导体制造用光刻测量设备的开发。该笔融资将推动其 EUV 掩模检测设备和反射镜产品系列的发展。随着市场对 EUV 光刻的关注度不断提高,EUV 技术仍是实现大规模制造的关键,并推动芯片制造技术采用变革性方法。
     
  • 2023年3月,Picarro 发布了 SLiM 100 光刻工艺工具监测系统。这是一款化学物质测量工具,检测限为1 ppb,可在半导体工厂实时监测挥发性有机化合物(VOCs)。该系统通过检测空气中的分子污染物,减少缺陷并提高产量,从而改善工艺管理。这有助于快速解决问题,同时减少光刻设备的产量及其停机时间。
     

本光刻计量设备市场研究报告深入涵盖了该行业,按收入(十亿美元/百万美元)和销量(台)统计,提供2021年至2034年的估算和预测,涵盖以下细分市场:

按技术划分的市场

  • 光学计量
  • 关键尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)
  • 套刻计量
  • 原子力显微镜(AFM)
  • 散射计量

按产品划分的市场

  • 化学品控制设备
  • 气体控制设备
  • 其他

按工艺划分的市场

  • 边缘
  • 云端

按应用划分的市场

  • 半导体制造
  • 平板显示器(FPD)制造
  • 微机电系统(MEMS)
  • LED 制造
  • 其他

按终端用户行业划分的市场

  • 集成器件制造商(IDM)
  • 晶圆代工厂

上述信息涵盖以下地区和国家:

  • 北美
    • 美国
    • 加拿大
  • 欧洲
    • 英国
    • 德国
    • 法国
    • 意大利
    • 西班牙
    • 俄罗斯
  • 亚太地区
    • 中国
    • 印度
    • 日本
    • 韩国
    • 澳大利亚 
  • 拉丁美洲
    • 巴西
    • 墨西哥
  • 中东和非洲
    • 阿联酋
    • 沙特阿拉伯
    • 南非

 

作者:  Suraj Gujar , Saptadeep Das

常见问题 (FAQs):

2024年,全球光刻计量设备市场规模为7.55亿美元,预计到2034年将达到15亿美元。受半导体技术进步推动,预测期内复合年增长率(CAGR)为7.4%。
光学计量凭借非侵入式、快速测量的能力占据市场主导地位;这些能力对于半导体大规模生产以及 EUV 光刻等先进制造技术至关重要。
2024年,美国市场占北美市场份额的87.4%,这得益于其强大的半导体制造基础,以及在先进制程节点和EUV光刻领域的大量投资。
市场主要企业包括 ASML Holding NV、Nikon Corporation、EV Group、Applied Materials Inc、KLA Corporation、Onto Innovation、Canon Inc.、Hitachi High-Tech Corporation 和 Thermo Fisher Scientific Inc.

研究方法、数据来源与验证流程

本报告采用系统化的研究流程,以与行业参与者直接交流、自主建模和严格的交叉验证为核心,而非仅依赖案头研究。

我们的六步研究流程

  1. 1. 研究设计与分析师监督

    GMI 的研究方法以专业人员的经验、严格的验证和充分的透明度为基础。我们报告中的每项洞察、趋势分析和预测均由了解目标市场细微差别的资深分析师完成。

    我们通过与行业参与者和专家直接交流开展广泛的一手调研,并辅以基于经过核实的全球来源所进行的全面二手研究。我们运用量化影响分析提供可靠的预测,同时确保从原始数据来源到最终研究结论的全程可追溯性。

  2. 2. 一手调研

    一手调研是我们研究方法的支柱,贡献了整体洞察的近 80%。我们直接接触行业参与者,以确保分析的准确性和深度。我们结构化的访谈计划覆盖区域及全球市场,收集企业高管、董事和领域专家的意见。这些交流提供战略、运营和技术视角,使研究结论更加全面,市场预测更加可靠。

  3. 3. 数据挖掘与市场分析

    数据挖掘是研究流程的重要组成部分,在整体研究方法中约占 20%。我们通过分析主要企业的收入份额,研究市场结构、识别行业趋势并评估宏观经济因素。我们从付费和免费来源收集相关数据,建立可靠的数据库。这些信息随后用于支持一手调研和市场规模测算,并由分销商、制造商和行业协会等关键利益相关方进行验证。

  4. 4. 市场规模测算

    我们采用自下而上的方法测算市场规模。首先使用一手访谈直接获得的企业收入数据,同时结合制造商的产量以及安装量或部署量统计。随后按区域市场汇总这些数据,得出以实际行业活动为依据的全球市场估算值。

  5. 5. 预测模型与关键假设

    每项预测均明确记录以下内容:

    • ✓ 主要增长驱动因素及其假定影响

    • ✓ 增长制约因素及缓解情景

    • ✓ 监管假设与政策变化风险

    • ✓ 技术采用曲线参数

    • ✓ 宏观经济假设(GDP 增长、通货膨胀、汇率)

    • ✓ 竞争格局及市场进入和退出预期

  6. 6. 验证与质量保证

    在最后阶段,领域专家会人工审查筛选后的数据,识别自动化系统可能遗漏的细微差别和语境错误。专家审查是质量保证的关键环节,可确保数据符合研究目标和相关领域的专业标准。

    我们的三层验证流程致力于最大程度地保障数据可靠性:

    • ✓ 统计验证

    • ✓ 专家验证

    • ✓ 与市场实际情况核对

信任与公信力

10+
经营年限
自成立以来持续提供服务
A+
BBB 认证
专业标准与客户满意度
ISO
质量认证
获得 ISO 9001:2015 认证的企业
150+
研究分析师
覆盖 20 多个行业领域
95%
客户留存率
五年客户关系价值

经过核实的数据来源

  • 行业出版物

    行业期刊、专业出版物和专业媒体

  • 行业数据库

    自有及第三方市场数据库

  • 监管申报文件

    政府采购记录及政策文件

  • 学术研究

    大学研究成果及专业机构报告

  • 企业报告

    年度报告、投资者演示材料及申报文件

  • 专家访谈

    企业高管、采购负责人和技术专家

  • GMI 研究档案

    覆盖 20 多个行业领域的 13,000 多份已发布的研究报告

  • 贸易数据

    进出口量、HS 编码及海关记录

研究与评估的参数

本报告中的每个数据点均经过一手访谈、基于实际数据的自下而上建模以及严格的交叉核查验证。 了解我们的研究流程 →

作者:  Suraj Gujar, Saptadeep Das
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