原子层沉积(ALD)设备市场 大小和分享 2026-2035
报告 ID: GMI8346
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发布日期: March 2026
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报告格式: PDF
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作者: Suraj Gujar, Ankita Chavan

原子层沉积设备市场规模
全球原子层沉积设备市场在2025年价值为47亿美元。据全球市场洞察公司发布的最新报告,该市场预计将从2026年的52亿美元增长至2031年的84亿美元,并在2035年达到132亿美元,预测期内年复合增长率为10.9%。
市场增长主要归因于向先进半导体节点制造的转变、3D存储架构生产的增加、基于宽禁带半导体的功率电子产品需求扩大,以及ALD工艺在先进封装和纳米级器件制造中的应用日益增长。市场的强劲增长动力来自于对先进半导体节点制造的需求激增。随着芯片制造商向5纳米、3纳米及未来2纳米以下节点转型,原子级薄膜控制对于可靠的晶体管性能变得至关重要。2025年1月,美国商务部宣布了一系列支持半导体生产的激励措施,包括通过《芯片法案》为美国半导体行业材料生产提供最高3.25亿美元资金。这些投资正在加速先进半导体芯片的生产,从而增加了对ALD设备的需求,用于生产超薄介电层和阻挡层。
功率电子设备和宽禁带半导体的增长也推动了原子层沉积设备的需求。例如,碳化硅和氮化镓材料在高压应用中需要介电层才能正常工作。根据国际能源署的数据,2024年电动汽车销量超过1700万辆,占汽车总销量的20%以上。电动出行的快速扩张正在推动碳化硅和氮化镓功率器件的生产,进一步增强了对用于沉积高质量绝缘层和钝化层的ALD设备的需求。
向先进半导体制造节点和存储芯片制造的转变是推动市场增长的主要因素之一。此外,ALD技术在功率半导体器件制造中的应用日益广泛、全球半导体制造厂的投资增加,以及ALD工艺在先进封装和微机电系统制造中的采用,也为市场增长做出了贡献。
2025年市场份额为19.4%
2025年整体市场份额为72.1%
原子层沉积设备市场趋势
- 等离子体增强原子层沉积技术的采用是半导体行业的重要趋势之一,正在获得广泛关注。该技术自2021年开始采用,众多半导体制造商寻求更好的薄膜质量和更低的沉积温度,以开发复杂的器件结构。预计该技术将持续至2030年,众多制造厂正在提升复杂晶体管结构的生产规模。
- 空间原子层沉积技术的发展正在加速,以满足晶圆制造中对产量提升的需求。
The adoption of the technology by the industry is believed to have started around 2022, with many semiconductor manufacturers requiring increased deposition rate for the production of complex devices. The technology is believed to continue through 2031, with many manufacturers ramping up production of complex devices. Increased throughput ALD technology is believed to be a significant technology for increased efficiency while maintaining precision.原子层沉积设备市场分析
根据设备类型,原子层沉积设备市场可分为空间ALD系统、批量ALD系统、单晶圆ALD系统和卷对卷ALD系统。
根据技术类型,原子层沉积设备市场可分为热ALD和等离子体增强ALD(PEALD)。
基于晶圆尺寸,原子层沉积设备市场被划分为300毫米、200毫米及以下200毫米三个细分市场。
北美原子层沉积设备市场
北美在2025年占据了36.5%的市场份额。
美国原子层沉积设备市场在2022年和2023年的市场价值分别为9亿美元和10亿美元。市场规模在2025年达到12亿美元,较2024年的11亿美元增长。
欧洲原子层沉积设备市场
欧洲市场在2025年达到90亿美元,并有望在预测期内呈现可观增长。
英国在欧洲原子层沉积设备市场中占据主导地位,展现出强劲的增长潜力。
亚太地区原子层沉积设备市场
亚太地区市场有望在预测期内以12.5%的最高复合年增长率增长。
中国原子层沉积设备市场在亚太地区预计将以显著复合年增长率增长。
中东和非洲原子层沉积设备市场
阿联酋市场将在中东和非洲市场中实现显著增长
原子层沉积设备市场份额
市场主要由ASM International N.V.、东京电子株式会社、应用材料公司、泛林集团及韦科仪器等企业主导。这五家公司在2025年共同占据了72.1%的市场份额,得益于其在半导体制造领域的技术专长、先进沉积平台及全球客户网络。其完整的ALD设备产品组合使其能够支持逻辑芯片、存储器、功率器件及先进封装等应用领域。
这些公司通过持续投入工艺创新、精密薄膜沉积技术及下一代半导体制造解决方案来维持竞争优势,这些技术支撑了其在当前快速增长的全球半导体制造市场中的地位。其在ALD设备技术领域的市场领导地位,还因与顶级半导体代工厂的战略合作及对先进工艺开发计划的持续投资而进一步巩固。
原子层沉积设备市场企业
在ALD设备市场中运营的主要企业如下:
ASM International提供的先进ALD技术在半导体制造领域广受欢迎,尤其在超薄薄膜沉积方面表现突出。该公司专注于高精度薄膜沉积技术,尤其在先进逻辑芯片和存储器领域,其中对原子级材料控制的需求在下一代半导体器件和复杂晶体管结构中至关重要。
东京电子提供多种晶圆处理设备,包括ALD(原子层沉积)技术,尤其在大规模半导体制造领域具有优势。其技术在先进逻辑芯片、存储器及功率半导体器件中应用广泛,强调高产能、工艺稳定性及与现代半导体生产线的集成。
应用材料专注于提供集成材料工程解决方案,涵盖ALD技术及先进的沉积系统。公司还致力于通过精密薄膜沉积设备开发下一代半导体制造解决方案。
泛林研究提供包含ALD技术的最新晶圆制造设备,专注于高深宽比半导体器件的ALD技术开发。该技术广泛应用于3D NAND闪存、DRAM及逻辑器件的生产。
维科仪器专注于专业薄膜技术的开发,提供用于化合物半导体材料、MEMS技术及封装的ALD技术,为新兴电子市场提供精密的材料工程解决方案。
原子层沉积设备行业新闻
原子层沉积设备市场研究报告涵盖了该行业的深度分析,并对2022至2035年各细分市场的收入(单位:百万美元)进行了预测,具体包括:
按设备类型划分的市场
按技术类型划分的市场
按晶圆尺寸划分的市场
按应用领域划分的市场
按终端用户行业划分的市场
以上信息涵盖以下地区和国家: