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原子层沉积(ALD)设备市场 大小和分享 2026-2035

报告 ID: GMI8346
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发布日期: March 2026
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原子层沉积设备市场规模

全球原子层沉积设备市场在2025年价值为47亿美元。据全球市场洞察公司发布的最新报告,该市场预计将从2026年的52亿美元增长至2031年的84亿美元,并在2035年达到132亿美元,预测期内年复合增长率为10.9%。

原子层沉积(ALD)设备市场研究报告

市场增长主要归因于向先进半导体节点制造的转变、3D存储架构生产的增加、基于宽禁带半导体的功率电子产品需求扩大,以及ALD工艺在先进封装和纳米级器件制造中的应用日益增长。市场的强劲增长动力来自于对先进半导体节点制造的需求激增。随着芯片制造商向5纳米、3纳米及未来2纳米以下节点转型,原子级薄膜控制对于可靠的晶体管性能变得至关重要。2025年1月,美国商务部宣布了一系列支持半导体生产的激励措施,包括通过《芯片法案》为美国半导体行业材料生产提供最高3.25亿美元资金。这些投资正在加速先进半导体芯片的生产,从而增加了对ALD设备的需求,用于生产超薄介电层和阻挡层。

功率电子设备和宽禁带半导体的增长也推动了原子层沉积设备的需求。例如,碳化硅和氮化镓材料在高压应用中需要介电层才能正常工作。根据国际能源署的数据,2024年电动汽车销量超过1700万辆,占汽车总销量的20%以上。电动出行的快速扩张正在推动碳化硅和氮化镓功率器件的生产,进一步增强了对用于沉积高质量绝缘层和钝化层的ALD设备的需求。

向先进半导体制造节点和存储芯片制造的转变是推动市场增长的主要因素之一。此外,ALD技术在功率半导体器件制造中的应用日益广泛、全球半导体制造厂的投资增加,以及ALD工艺在先进封装和微机电系统制造中的采用,也为市场增长做出了贡献。

原子层沉积设备市场趋势

  • 等离子体增强原子层沉积技术的采用是半导体行业的重要趋势之一,正在获得广泛关注。该技术自2021年开始采用,众多半导体制造商寻求更好的薄膜质量和更低的沉积温度,以开发复杂的器件结构。预计该技术将持续至2030年,众多制造厂正在提升复杂晶体管结构的生产规模。
  • 空间原子层沉积技术的发展正在加速,以满足晶圆制造中对产量提升的需求。
The adoption of the technology by the industry is believed to have started around 2022, with many semiconductor manufacturers requiring increased deposition rate for the production of complex devices. The technology is believed to continue through 2031, with many manufacturers ramping up production of complex devices. Increased throughput ALD technology is believed to be a significant technology for increased efficiency while maintaining precision.
  • ALD在化合物半导体制造中的应用日益增长,正在重塑新兴电子行业的设备需求。这一趋势始于2020年左右,氮化镓和碳化硅技术在电动汽车和高频通信系统中获得了广泛应用。预计这一趋势将延续至2030年以后,主要受益于功率电子和射频器件的进一步普及。ALD对于高质量介电层和钝化层至关重要,这些材料是器件正常运行的必要条件。
  • ALD与异构半导体集成和芯粒技术的融合正成为新兴行业趋势。这一趋势始于2022年左右,随着半导体公司转向模块化芯片设计以提升性能并降低制造复杂度。随着先进封装生态系统的成熟,预计未来十年采用率将持续增长。ALD能够实现超薄阻挡层和介电层,从而提升多芯片系统中的互连可靠性和器件密度。
  • 原子层沉积设备市场分析

    图表:全球原子层沉积(ALD)设备市场,按设备类型划分,2022-2035(十亿美元)

    根据设备类型,原子层沉积设备市场可分为空间ALD系统、批量ALD系统、单晶圆ALD系统和卷对卷ALD系统。

    • 卷对卷ALD系统细分市场在2025年占据主导地位,市场份额达64%。卷对卷ALD系统引领市场的原因在于其能够在柔性基板上实现连续薄膜涂覆,广泛应用于电子产品、光伏电池和阻隔膜。这些系统支持大面积均匀沉积的高容量制造,是柔性电子和能源器件应用中可扩展生产的关键设备。
    • 单晶圆ALD系统细分市场预计在预测期内以10.2%的复合年增长率增长。这一增长主要得益于先进半导体制造领域的采用率提升,在复杂器件架构中需要精确到原子级的沉积工艺。单晶圆系统具备卓越的工艺控制能力、多材料层灵活性以及与先进制造节点的兼容性,满足了逻辑芯片、存储器和先进芯片封装应用的不断增长需求。

    图表:全球原子层沉积(ALD)设备市场份额,按技术类型划分,2025(%)

    根据技术类型,原子层沉积设备市场可分为热ALD和等离子体增强ALD(PEALD)。

    • 等离子体增强原子层沉积(PEALD)细分市场在2025年占据主导地位,市场价值达44亿美元,主要得益于其在较低温度下沉积高质量薄膜的能力,优于传统ALD工艺。PEALD在半导体制造中广泛用于栅极介电层、阻挡层以及先进器件结构中的共形涂层。其高薄膜密度、改善的材料特性以及与复杂晶体管架构的兼容性,使其在领先的半导体制造厂中需求持续强劲。
    • 热ALD细分市场预计在预测期内将以8.8%的复合年增长率增长,原因在于其在新兴应用领域(如能源存储设备、先进涂层和纳米材料加工)中的广泛应用。热ALD提供卓越的均匀性和精确的厚度控制,适用于大面积基板,使其适合用于电池电极、催化材料和保护涂层。纳米材料和能源技术的研发与商业化推动了其市场快速采用。

    基于晶圆尺寸,原子层沉积设备市场被划分为300毫米、200毫米及以下200毫米三个细分市场。

    • 2025年,低于200毫米的细分市场凭借其在研究实验室、试点半导体生产线、MEMS制造和特种器件制造中的广泛应用,占据了47.9%的市场份额。众多大学、研究机构和专业半导体制造商采用较小晶圆平台进行材料创新、原型开发和小批量生产。这些系统提供灵活性、较低的资本投入以及对多样化基板的兼容性,从而在研发和特种电子制造环境中维持需求。
    • 300毫米细分市场预计在预测期内将以8.3%的复合年增长率增长,原因在于先进半导体制造厂的快速扩张。大尺寸晶圆平台提高了生产效率,并在逻辑芯片、存储器和先进封装器件的大批量制造中得到广泛应用。随着半导体代工厂越来越多地转向300毫米晶圆工艺以满足下一代节点需求,对能够在大晶圆上实现精确薄膜沉积的ALD设备的需求预计将显著增长。

    图表:美国原子层沉积(ALD)设备市场规模,2022-2035(十亿美元)

    北美原子层沉积设备市场

    北美在2025年占据了36.5%的市场份额。

    • 北美市场的扩张主要得益于对本土半导体制造和先进材料研究的投资增加。高性能计算、AI处理器和下一代存储技术需求的增长,推动了半导体工厂对精密薄膜沉积设备的采用。

    • 政府和私营企业大力投资先进芯片制造厂和材料工程能力。该地区有望保持关键技术枢纽地位,半导体制造、电力电子和研发驱动的创新将支持到2035年ALD设备需求的稳定增长。

    美国原子层沉积设备市场在2022年和2023年的市场价值分别为9亿美元和10亿美元。市场规模在2025年达到12亿美元,较2024年的11亿美元增长。

    • 美国市场的增长尤为强劲,主要得益于持续的联邦激励措施和私营部门对半导体制造的投资。2025年1月,美国商务部宣布在《芯片法案》激励计划下提供高达3.25亿美元的资金,用于支持本土半导体材料生产,旨在加强美国半导体供应链。
    • 半导体制造产能和材料生产的扩张,推动了对先进沉积技术(如用于晶体管栅极叠层、阻挡层及存储器件制造的原子层沉积)的需求。这些举措,连同在先进节点晶圆制造和AI芯片生产领域的投资增加,正将美国打造成为北美半导体设备需求的主要中心。

    欧洲原子层沉积设备市场

    欧洲市场在2025年达到90亿美元,并有望在预测期内呈现可观增长。

    • 欧洲市场的扩张源于对半导体制造和材料创新的战略性投资,旨在增强区域芯片生产能力。欧盟委员会正推进《欧洲芯片法案》下的举措,以支持全区域先进半导体制造和研究基础设施建设。
    • 包括德国、法国和荷兰在内的国家正投资半导体研究中心、试验生产线及先进材料开发项目。这些举措正加速精密薄膜沉积技术(如ALD)在半导体器件制造、光子学及新兴纳米电子学领域的应用普及。

    英国在欧洲原子层沉积设备市场中占据主导地位,展现出强劲的增长潜力。

    • 英国市场的强化得益于政府支持的半导体研究和先进电子制造投资。2025年,英国科学、创新与技术部继续推进《英国国家半导体战略》,承诺在十年内投入130亿美元资金,扩大国内半导体设计、研究基础设施及化合物半导体制造能力。
    • 这些投资支持先进材料加工和薄膜技术在光子学、量子器件及化合物半导体生产中的应用。英国强大的研究生态系统及对下一代电子学的专注,正因此提升对用于纳米级材料沉积和器件制造的ALD设备的需求。

    亚太地区原子层沉积设备市场

    亚太地区市场有望在预测期内以12.5%的最高复合年增长率增长。

    • 亚太地区市场快速扩张,源于该地区积极的半导体制造扩张及政府支持的芯片生态系统计划。台湾、韩国、日本和印度等国家通过政策激励、研究资金及供应链本土化举措,强化国内制造产能。
    • 此外,在先进封装、化合物半导体及存储器制造领域的大额投资,正推动对精密薄膜沉积技术的需求。区域内领先的代工厂及不断增长的半导体设备投资,持续加速ALD系统在下一代器件制造中的应用。

    中国原子层沉积设备市场在亚太地区预计将以显著复合年增长率增长。

    • 中国作为亚太地区ALD设备最重要的市场之一,正加速提升其国内半导体制造能力。国家半导体投资计划及省级资金支持新建晶圆厂、设备采购及先进材料研究。
    • 中国还在扩大化合物半导体、先进显示及功率器件的生产,这些领域均需高度均匀的薄膜沉积工艺。国内制造产能及半导体供应链本土化的快速发展,正推动ALD设备在研究机构及商业晶圆厂中的部署。

    中东和非洲原子层沉积设备市场

    阿联酋市场将在中东和非洲市场中实现显著增长

    • 阿拉伯联合酋长国的原子层沉积市场正逐步扩张,得益于该国在半导体研究、先进材料及微电子创新领域的战略性投资。技术创新研究院与哈利法大学共同运营的研究项目通过精密薄膜沉积技术(包括ALD)推动纳米技术、微加工及半导体器件开发的发展。
    • 阿拉伯联合酋长国通过国家级技术计划(如旨在提升高科技工业生产与研发设施的"3000亿行动")打造先进制造生态系统。对纳米材料、先进电子研究实验室及半导体器件原型设计设施的持续投资,正在为该国学术研究中心和新兴技术制造项目采用ALD设备创造机遇。

    原子层沉积设备市场份额

    市场主要由ASM International N.V.、东京电子株式会社、应用材料公司、泛林集团及韦科仪器等企业主导。这五家公司在2025年共同占据了72.1%的市场份额,得益于其在半导体制造领域的技术专长、先进沉积平台及全球客户网络。其完整的ALD设备产品组合使其能够支持逻辑芯片、存储器、功率器件及先进封装等应用领域。

    这些公司通过持续投入工艺创新、精密薄膜沉积技术及下一代半导体制造解决方案来维持竞争优势,这些技术支撑了其在当前快速增长的全球半导体制造市场中的地位。其在ALD设备技术领域的市场领导地位,还因与顶级半导体代工厂的战略合作及对先进工艺开发计划的持续投资而进一步巩固。

    原子层沉积设备市场企业

    在ALD设备市场中运营的主要企业如下:

    • Aixtron SE
    • ANRIC Technologies
    • 应用材料公司
    • Arradiance, LLC
    • ASM International NV
    • Beneq Oy
    • Cambridge NanoTech
    • CVD设备公司
    • Entegris Inc.
    • Forge Nano Inc.
    • 日立高新技术公司
    • Kurt J. Lesker公司
    • 泛林集团
    • Meyer Burger
    • MSE Supplies LLC
    • Nano-Master公司
    • 牛津仪器公司Unlink
    • 辐射监测设备公司
    • SENTECH仪器有限公司
    • 昭和真空株式会社
    • SVT Associates
    • 东京电子株式会社
    • 韦科仪器公司
    • Watty公司

    ASM International提供的先进ALD技术在半导体制造领域广受欢迎,尤其在超薄薄膜沉积方面表现突出。该公司专注于高精度薄膜沉积技术,尤其在先进逻辑芯片和存储器领域,其中对原子级材料控制的需求在下一代半导体器件和复杂晶体管结构中至关重要。

    东京电子提供多种晶圆处理设备,包括ALD(原子层沉积)技术,尤其在大规模半导体制造领域具有优势。其技术在先进逻辑芯片、存储器及功率半导体器件中应用广泛,强调高产能、工艺稳定性及与现代半导体生产线的集成。

    应用材料专注于提供集成材料工程解决方案,涵盖ALD技术及先进的沉积系统。公司还致力于通过精密薄膜沉积设备开发下一代半导体制造解决方案。

    泛林研究提供包含ALD技术的最新晶圆制造设备,专注于高深宽比半导体器件的ALD技术开发。该技术广泛应用于3D NAND闪存、DRAM及逻辑器件的生产。

    维科仪器专注于专业薄膜技术的开发,提供用于化合物半导体材料、MEMS技术及封装的ALD技术,为新兴电子市场提供精密的材料工程解决方案。

    原子层沉积设备行业新闻

    • 2025年11月,Beneq Oy发布了Transmute ALD平台,这是一款面向宽禁带功率电子、射频器件及微型LED技术的大规模生产而设计的下一代沉积系统。该系统结合等离子体预处理、等离子增强ALD及热ALD工艺,实现高产能制造并提供原子级界面控制。
    • 2025年9月,Forge Nano Inc在SEMICON台湾展会上发布了TEPHRA One 200毫米单晶圆ALD工具。该平台实现了氧化物、氮化物及纳米叠层涂层的自动化沉积,适用于化合物半导体制造,可提升ALD涂层速度并支持先进电子的可扩展晶圆级生产。
    • 2025年2月,泛林研究公司推出ALTUS Halo原子层沉积系统,这是业界首个针对大规模半导体制造的钼ALD解决方案。该平台支持低电阻率、无空隙金属化工艺,满足先进存储器及逻辑芯片的需求,助力AI及下一代器件的技术节点缩小。

    原子层沉积设备市场研究报告涵盖了该行业的深度分析,并对2022至2035年各细分市场的收入(单位:百万美元)进行了预测,具体包括:

    按设备类型划分的市场

    • 单晶圆ALD系统
    • 批量ALD系统
    • 空间ALD系统
    • 卷对卷ALD系统

    按技术类型划分的市场

    • 热ALD
    • 等离子增强ALD(PEALD)

    按晶圆尺寸划分的市场

    • 300毫米
    • 200毫米
    • 小于200毫米

    按应用领域划分的市场

    • 逻辑与存储器件
    • MEMS与传感器
    • 功率电子
    • 光电子
    • 能源存储

    按终端用户行业划分的市场

    • 半导体制造商
    • 电子与光电子制造商
    • 能源与电池制造商
    • 研究机构
    • 其他

    以上信息涵盖以下地区和国家:

    • 北美
      • 美国
      • 加拿大
    • 欧洲
      • 德国
      • 英国
      • 法国
      • 西班牙
      • 意大利
      • 荷兰
    • 亚太地区
      • 中国
      • 印度
      • 日本
      • 澳大利亚
      • 韩国
    • 拉丁美洲
      • 巴西
      • 墨西哥
      • 阿根廷
    • 中东和非洲
      • 南非
      • 沙特阿拉伯
      • 阿联酋
    作者: Suraj Gujar, Ankita Chavan
    常见问题(FAQ):
    2025年全球原子层沉积设备市场规模是多少?
    2025年全球市场价值为47亿美元。
    到2035年,ALD设备市场的预期价值是多少?
    预计到2035年,该市场规模将达到132亿美元,在预测期内以年复合增长率10.9%的速度增长。
    2025年,哪一类设备细分市场占据主导地位?
    2025年,卷对卷原子层沉积(ALD)系统细分市场占据主导地位,份额达到64%。
    2025年等离子体增强原子层沉积(PEALD)细分市场的估值是多少?
    2025年,PEALD细分市场占据主导地位,市场规模达到44亿美元。
    2025年哪个晶圆尺寸细分市场占据最大份额?
    2025年,该200毫米晶圆片细分市场占据主导地位,市场份额达47.9%。
    哪个地区是原子层沉积(ALD)设备增长最快的市场?
    亚太地区预计将成为增长最快的市场,在预测期内的复合年增长率(CAGR)最高可达12.5%。
    原子层沉积设备市场的前五大厂商是哪些?
    2025年,排名前五的企业分别为荷兰阿斯麦公司(ASM International N.V.)、日本东京电子株式会社(Tokyo Electron Limited)、美国应用材料公司(Applied Materials Inc.)、美国泛林集团(Lam Research Corporation)以及美国维易科精密仪器公司(Veeco Instruments),五家企业共同占据72.1%的市场份额。
    作者: Suraj Gujar, Ankita Chavan
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    高级报告详情:

    基准年: 2025

    涵盖的公司: 25

    表格和图表: 345

    涵盖的国家: 19

    页数: 295

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