Tamano del Mercado de Equipos de Litografia de Ultravioleta Extremo (EUV) - Por Tipo de Tecnologia, Por Tipo de Equipo, Por Aplicacion de Nodo Tecnologico, Por Tipo de Uso Final y Por Industria de Uso Final, Pronostico de Crecimiento, 2025 - 2034

Tamaño del mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo

El mercado global de equipos de litografía de ultravioleta extremo se estimó en USD 8.66 mil millones en 2024 con un volumen de 40 unidades en 2024. Se espera que el mercado crezca de USD 9.71 mil millones en 2025 a USD 18.38 mil millones en 2030 y USD 33.91 mil millones para 2034 con un volumen de 142 unidades, con una CAGR de valor del 14.9% y una CAGR de volumen del 13.8% durante el período de pronóstico de 2025–2034.

• El mercado de equipos de litografía EUV está experimentando un crecimiento sostenido debido al movimiento de la industria de semiconductores hacia nodos de proceso modernos, junto con el aumento de la complejidad de la electrónica moderna. El valor del mercado de USD 8.66 mil millones en 2024 significa la importancia de la tecnología EUV para las capacidades futuras de fabricación de semiconductores.
  
• El crecimiento de USD 9.71 mil millones en 2025 a USD 33.91 mil millones en 2034 representa una tasa de crecimiento anual compuesta del 14.9%, que está muy por encima del crecimiento en los mercados de litografía. Esto es un resultado directo del aumento dramático en las implementaciones de sistemas EUV. Las hojas de ruta de la industria indican que las principales fundiciones tienen la intención de instalar más de 500 sistemas EUV en conjunto para 2030.
  
• El crecimiento en el tamaño del mercado está impulsado por la economía de unidades de la adopción de EUV, en la cual el costo de los sistemas que van desde USD 200-400 millones es eclipsado por la capacidad de la tecnología para fabricar nodos avanzados que de otra manera solo serían productivos a través de técnicas de múltiples patrones complejas y costosas. El cálculo del mercado total abordable va más allá de los sistemas de escáner EUV para incluir toda la cadena de valor que consiste en fuentes de luz, óptica, máscaras, metrología y soporte.
  
• El tamaño del mercado por región refleja la distribución de la fabricación avanzada de semiconductores, con Asia Pacífico, que incluye TSMC y Samsung, capturando el 56.2% del valor del mercado. La participación del 25.2% de Norteamérica se genera por la agresiva implementación de EUV de Intel y la demanda de nodos avanzados por parte de las principales empresas fabless.
  
• El enfoque de evaluación del mercado incluye el valor directo de los equipos vendidos y el sistema de mercado que cubre contratos de servicio, consumibles y valor de actualización de sistemas. Los ingresos anuales por servicio por sistema EUV, que están entre USD 15-25 millones, son críticos en la comprensión de la valoración integral del mercado junto con los ingresos recurrentes para los proveedores de equipos.
  

Tendencias del mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo

• El factor principal que impulsa el crecimiento del mercado es la transición de la industria de la litografía por inmersión convencional de 193 nm a EUV para la fabricación de nodos avanzados. Este cambio cambiará fundamentalmente la forma en que se ejecuta el proceso de fabricación de semiconductores, pasando de métodos de múltiples patrones complejos a un método de exposición única más simple utilizando EUV. La línea de tiempo de transición demuestra una adopción masiva acelerada, como lo ilustra el conteo de capas EUV por chip. Esto ha aumentado de 5-10 capas en nodos de 7 nm a 15-20 capas en nodos de 3 nm con proyecciones de alcanzar 25+ capas en la fabricación de 2 nm.
  
• La introducción de sistemas de ultravioleta extremo (EUV) de alta apertura numérica (NA) implica la siguiente evolución en la litografía para lograr la resolución necesaria para el procesamiento en nodos de 2 nanómetros (nm) y sub-2nm. Los sistemas EUV de alta NA utilizan óptica con una apertura numérica de 0.55 en lugar de 0.33, logrando tamaños de características mínimas de 8 nm frente a 13 nm.Esta mejora en la resolución es crítica para mantener la escalabilidad de la Ley de Moore más allá de los límites conocidos y definidos de la tecnología existente. Por ejemplo, el sistema TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV de ASML tiene un precio de USD 370 – 400 millones, en comparación con los USD 200 millones de sus sistemas EUV estándar, y fue entregado por primera vez a Intel en diciembre de 2023 y posteriormente a TSMC a finales de 2024. Los planes de despliegue de maquinaria EUV de alta apertura numérica publicados por las principales fundiciones indican planes para su instalación a partir de 2024 – 2025 para desarrollar nodos de 2nm, con despliegue para la fabricación en volumen en 2026-2027.
  
• Otra razón importante para el crecimiento del mercado es el cambio de la antigua litografía por inmersión de 193nm a la tecnología EUV para la fabricación de nodos avanzados y su adopción en toda la industria. El cambio significa un cambio en el enfoque de la fabricación de semiconductores, que incluye el abandono del complejo patrón multicapa para la fabricación avanzada y, en su lugar, la utilización de metodologías de exposición única EUV. Las tasas de adopción sugieren un crecimiento similar al que se espera que crezcan las capas EUV por chip, desde las actuales 5 - 10 en el nodo de 7nm hasta 25 en el nodo de 2nm, desde 15 - 20 en el nodo de 3nm.
  

Análisis del Mercado de Equipos de Litografía de Ultravioleta Extremo

En cuanto al tipo de tecnología, el mercado se divide en sistemas EUV estándar y sistemas EUV de alta apertura numérica.

• Los sistemas EUV estándar que aún funcionan con litografía por inmersión de 193nm con óptica de apertura numérica 0.33, que pueden fabricar nodos de proceso de 7nm, 5nm e incluso los primeros nodos de 3nm. Esto muestra cómo la industria está pasando gradualmente de los métodos antiguos a la nueva tecnología EUV (Ultravioleta Extremo).
  
• Estos sistemas EUV estándar logran tamaños de características mínimas de aproximadamente 13nm y son lo suficientemente rápidos para la producción real, procesando alrededor de 170–200 obleas por hora. Se proyecta una CAGR del 14.5% para los sistemas EUV estándar, lo que refleja el despliegue continuo para nodos avanzados establecidos y la expansión en aplicaciones de memoria.
  
• Los sistemas EUV de alta apertura numérica son sistemas de litografía en desarrollo, que poseen una apertura numérica más alta (0.55 NA), lo que les permite imprimir características aún más pequeñas, capaces de alcanzar tamaños de características mínimas de 8nm necesarios para los nodos de proceso de 2nm y sub-2nm. La CAGR del 17.6% para los sistemas de alta apertura numérica refleja la migración de la tecnología de I+D a la producción temprana lograda por Intel y TSMC en 2023-2024.
  
• A pesar de que los sistemas de alta apertura numérica tienen un costo exorbitante de USD 370-400 millones, que es más que los sistemas EUV convencionales, ahorran dinero y complejidad a largo plazo porque reducen la necesidad de pasos adicionales llamados doble patrón, que son necesarios en los sistemas más antiguos para hacer características muy pequeñas.

Según el tipo de equipo, el mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo se segmenta en Escáneres EUV, Sistemas Ópticos EUV, Fuentes de Luz EUV, Máscaras y Blanks EUV, Equipos de Metrología e Inspección EUV, Sistemas de Soporte EUV y Sistemas de Software y Computación EUV.

• Las divisiones de tipos de equipos destacan el ecosistema detallado necesario para la ejecución de la litografía EUV, con los escáneres EUV que tienen la mayor participación de mercado del 50,3% y se proyecta que crezca con una TAC del 15,8% hasta 2034. El poder de los escáneres forma el núcleo del proceso de litografía y son extremadamente caros, cada uno cuesta USD 200 –400 millones dependiendo de sus características.
  
• Los sistemas ópticos EUV representan el 15% de la participación de mercado con una TAC del 14,3% e incluyen los espejos de precisión, colectores y componentes ópticos que entregan el rendimiento del sistema EUV. ZEISS tiene acuerdos de suministro exclusivos con ASML para ópticas EUV, donde cada sistema requiere 10-11 espejos de precisión que exigen a los fabricantes en términos de precisión hasta picómetros.
  
• Las fuentes de luz EUV representan el 14,2% de la participación de mercado con una TAC del 15%, representando uno de los componentes más desafiantes técnicamente en el ecosistema EUV. Los sistemas actuales utilizan láseres de CO2 potentes para golpear pequeñas gotas de estaño, produciendo luz EUV a 250–300 vatios. Para satisfacer las demandas de los escáneres High-NA, la potencia de la fuente debe escalar a 500+ vatios, lo que la convierte en un área clave de desarrollo.
  

En base a la aplicación de nodos tecnológicos, el mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo se divide en Nodo Lógico de 7nm, Nodo Lógico de 5nm, Nodo Lógico de 3nm, Nodo Lógico de 2nm, Nodos Lógicos Sub-2nm, DRAM Avanzado (clase 10nm & abajo) y Flash NAND Avanzado.

• Las aplicaciones del Nodo Lógico de 7nm están a la vanguardia con una participación de mercado del 29,1% y una TAC del 14%. Este segmento es la primera implementación comercial significativa de la tecnología EUV, donde la economía de EUV frente a múltiples patrones alcanzó un punto de equilibrio para la fabricación de alto volumen.
  
• Las aplicaciones del Nodo Lógico de 5nm representaron una participación de mercado del 25,3% en 2024 y se proyecta que crezca con una TAC del 14,8%, representando así el enfoque actual de fabricación de alto volumen de las fundiciones líderes. En los nodos de 5nm, la tecnología EUV se aplica a 10-15 capas críticas, lo que reduce la complejidad del proceso en comparación con las alternativas de inmersión de 193nm y, al mismo tiempo, permite los requisitos de densidad y rendimiento de los transistores para procesadores y SoCs móviles avanzados.
  
• Las aplicaciones del Nodo Lógico de 3nm representan el 20,7% del mercado con una TAC del 15,5%, siendo así la frontera tecnológica para la implementación de producción. Los nodos de 3nm utilizan EUV para 15-20 capas críticas y requieren todas las características de los sistemas EUV de generación actual, como mejor precisión de superposición y menos efectos estocásticos. Las principales fundiciones están aumentando la producción de 3nm con EUV como la tecnología que lo hace posible. tecnología.

América del Norte tuvo una participación de mercado del 25,2% en 2024 y se anticipa que crezca con una TAC del 14,9%. Esto se debe principalmente a la agresiva implementación de EUV de Intel para la fabricación de nodos avanzados y la concentración de las principales empresas fabless que requieren servicios de fabricación habilitados para EUV. A través de su inversión en tecnología EUV High-NA, Intel no solo se convierte en el líder tecnológico, sino también el primero en tener las capacidades de litografía de próxima generación.

• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo de EE. UU. valía USD 2 mil millones en 2024 y se espera que crezca a una TAC del 15% durante el período de pronóstico 2025 - 2034. Según la Ley CHIPS del Gobierno de los Estados Unidos, se asignan USD 825 millones para los programas de aceleración de EUV que apoyan las capacidades de fabricación de semiconductores nacionales y ayudan a reducir la dependencia de la producción de productos habilitados para EUV extranjeros. Esta ayuda gubernamental es la razón por la cual el sector privado está invirtiendo activamente en tecnología EUV y capacidad de fabricación nacional.
  
• Los fabricantes pueden beneficiarse de las subvenciones del CHIPS Act y trabajar junto con las fábricas de EE. UU. para localizar cadenas de suministro que no solo garantizarán el rápido despliegue de la tecnología, sino que también harán que el sector de producción de semiconductores de alto rendimiento sea más competitivo.
  
• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo en Canadá se espera que crezca a una CAGR del 13.8% para 2034. El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) de Canadá está creciendo debido al aumento del apoyo gubernamental para la I+D de semiconductores, los crecientes inversiones en fabricación avanzada y la creciente demanda de chips de precisión en los sectores de IA, aerospacial y telecomunicaciones. La colaboración entre las instituciones de investigación y los fabricantes de chips globales no solo inspirará, sino que también acelerará la adopción de la tecnología.
  
• Los fabricantes pueden utilizar mejor su tiempo y recursos si primero se enfocan en construir relaciones con los centros de investigación canadienses y luego aprovechan los incentivos gubernamentales para establecer operaciones locales de ensamblaje o prueba. De esta manera, estarán contribuyendo a la resiliencia de la cadena de suministro y a la competitividad tecnológica regional.
  

Europa posee el 15.6% del mercado con una CAGR del 13.3% en 2024. El crecimiento se debe principalmente a las extensas actividades de investigación y desarrollo en instituciones como IMEC y CEA-Leti, además de los fabricantes de semiconductores especializados que requieren capacidades EUV para aplicaciones de nicho. Varias iniciativas de la Unión Europea, incluida la Chips Joint Undertaking, están proporcionando el financiamiento necesario para el desarrollo y despliegue de la tecnología EUV.

• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo en Alemania se espera que crezca a una CAGR del 14.6% para 2034. El crecimiento del mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) en Alemania se debe principalmente a las inversiones en I+D de semiconductores, la creciente demanda de electrónica del sector automotriz y la innovación en chips influenciada por la Industria 4.0. Numerosos programas de financiamiento apoyados por el gobierno y las resultantes asociaciones entre institutos de investigación y fabricantes de chips que están ayudando a la rápida implementación de la litografía están consolidando la posición de Alemania como un centro de fabricación de semiconductores de alta gama.
  
• Los fabricantes en Alemania deben enfatizar la colaboración con los actores industriales y automotrices y alinearse con los programas de financiamiento federal. Estas actividades les ayudarán no solo a acelerar la comercialización de la tecnología EUV, sino también a establecer asociaciones sólidas.
  
• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo en el Reino Unido se espera que genere más de USD 1.27 mil millones para 2034. Uno de los factores que contribuyen al éxito del mercado de equipos de litografía EUV del Reino Unido es el aumento de la inversión en diseño de semiconductores, investigación en computación cuántica y nanotecnología. Varias iniciativas del gobierno, incluida la Estrategia Nacional de Semiconductores y las colaboraciones académicas, son los principales contribuyentes a la innovación, por lo que EUV se está volviendo más popular por la precisión de la fabricación de chips y las aplicaciones tecnológicas de alto valor.
  
• Los fabricantes deben trabajar estrechamente con los institutos de investigación en el Reino Unido, aprovechar al máximo las subvenciones de innovación y colaborar en el desarrollo de procesos de semiconductores habilitados por EUV para mejorar la capacidad tecnológica local y obtener una ventaja en el ecosistema de chips emergente del país.
  

Asia Pacífico afirmó su dominio en el mercado con una participación del 56.2% y una CAGR del 15.5%, lo que se atribuyó en gran medida a la concentración de los principales fabricantes de semiconductores del mundo y a la vigorosa inversión de la región en tecnologías de nodos avanzados. La región, por lo tanto, alberga a TSMC, Samsung, SK Hynix, entre otros, que a su vez son los mayores clientes de la tecnología EUV, ya que estas son las empresas que representan las principales fundiciones y fabricantes de memoria.

• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) en China se valoró en USD 1.86 mil millones en 2024 con el 38.1% de la participación total del mercado de APAC. La participación de China en el mercado de Asia Pacífico está limitada debido a una serie de medidas de control de exportaciones que restringen el acceso a la tecnología EUV, lo que proporciona una oportunidad a otros mercados. En consecuencia, Japón, Singapur y el mercado emergente del sudeste asiático son algunos de los beneficiarios de estas restricciones. Sony y Renesas, por ejemplo, son empresas japonesas que están aumentando la adopción de EUV para aplicaciones de semiconductores especializados.
  
• Los fabricantes deben explorar la viabilidad de joint ventures estratégicas, aprovechar al máximo los incentivos gubernamentales y concentrarse en la tecnología localizada de adaptación para poder superar los desafíos regulatorios y hacer uso del enorme ecosistema de fabricación de semiconductores de China de manera eficiente.
  
• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) en Corea del Sur se espera que crezca con una CAGR del 14.7% durante el período de pronóstico. Corea del Sur es el segundo mercado más significativo en la región de Asia Pacífico con operaciones de fundición en Samsung y fabricación de memoria por Samsung, que han visto las mayores inversiones en EUV tanto para aplicaciones lógicas como de DRAM. Una colaboración entre Samsung y ASML tiene una inversión de USD 760 millones en investigación e implementación de tecnología EUV en varias líneas de productos.
  
• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) en India se proyecta que supere los USD 5.23 mil millones para 2024. El mercado indio de herramientas de litografía que soportan Ultravioleta Extremo (EUV) está impulsado por programas gubernamentales de semiconductores como la "Misión Semiconductora de India" que busca el desarrollo de la capacidad de fabricación de chips domésticos. La creciente tendencia de fabricación de electrónica, digitalización e incentivos proporcionados a los jugadores de semiconductores extranjeros están contribuyendo igualmente a la adopción de la tecnología EUV, que es necesaria para satisfacer la demanda de producción de chips de nodos avanzados que está aumentando rápidamente.
  
• Los fabricantes deben colaborar con las fábricas indias, alinearse con los incentivos gubernamentales y crear una base temprana de EUV que sea favorable para la producción local de chips y coherente con los objetivos de autosuficiencia a largo plazo del país en semiconductores.
  

El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo en América Latina se proyecta que supere los USD 257.7 millones para 2034. La demanda de computación avanzada y electrónica automotriz se ha convertido en el principal impulsor de las inversiones de la región en sistemas de litografía de próxima generación para una mejor miniaturización de chips y eficiencia de producción.

El mercado de máquinas de litografía de ultravioleta extremo (EUV) en la región de Oriente Medio y África se espera que supere los 552.8 millones para 2034. El crecimiento del mercado de equipos de litografía EUV en MEA se atribuye principalmente a los centros de ensamblaje de semiconductores que están surgiendo en los EAU e Israel, con el apoyo de las inversiones en los sectores de electrónica, aerospacial y defensa.

• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo en Sudáfrica se valoró en USD 31.9 millones en 2024. El mercado sudafricano de equipos de litografía EUV está creciendo con el aumento del interés en la fabricación de microelectrónica y centros de innovación basados en investigación y desarrollo. El enfoque del gobierno en la industrialización digital y el desarrollo de habilidades en semiconductores está promoviendo asociaciones con los fabricantes mundiales de equipos de chips, y el objetivo es fortalecer las oportunidades de fabricación local y reducir la dependencia de tecnologías de semiconductores importadas.
  
• Los fabricantes deben centrarse en programas de capacitación colaborativa e iniciativas de transferencia de tecnología para establecer una temprana dominancia en el ecosistema emergente de semiconductores de Sudáfrica y los esfuerzos locales de producción de chips basados en I+D.
  
• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo en Arabia Saudita se proyecta que crecerá con una CAGR del 13.3% durante el período de pronóstico. La iniciativa Vision 2030 de Arabia Saudita está acelerando las inversiones en la fabricación de semiconductores como parte de sus objetivos de transformación digital. El enfoque del gobierno en infraestructura inteligente, electrónica de defensa y tecnologías renovables está impulsando la demanda de herramientas avanzadas de producción de chips, incluidas los sistemas de litografía EUV, para apoyar los esfuerzos de fabricación localizada y soberanía tecnológica.
  
• Los fabricantes deben asociarse con programas de innovación respaldados por el Estado y clústeres industriales para alinear los despliegues de EUV con los objetivos estratégicos de Arabia Saudita en autosuficiencia de semiconductores y diversificación industrial de alta tecnología.
  
• El mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) en los Emiratos Árabes Unidos se anticipa que superará los USD 167 millones para 2034. Los Emiratos Árabes Unidos se están desarrollando rápidamente como un centro de innovación en semiconductores con inversiones extensas en IA, ciudades inteligentes y tecnología de defensa. Sus asociaciones estratégicas con empresas internacionales de semiconductores y un entorno regulatorio favorable están impulsando la adopción de litografía EUV para apoyar el diseño, prueba y empaquetado avanzado de chips indígenas.
  

Participación en el mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo

• La participación combinada de los 5 principales actores del 87.61% incluye los sistemas de escáner de ASML y los proveedores de componentes críticos que forman el ecosistema EUV esencial. ZEISS mantiene una relación exclusiva con ASML para los sistemas ópticos EUV, proporcionando espejos de precisión y ensamblajes ópticos que definen el rendimiento del sistema. Cada sistema EUV requiere 10-11 espejos de precisión fabricados con tolerancias medidas en picómetros, representando un valor de sistema óptico de varios millones de dólares por escáner según la investigación de ZEISS.
  
• El mercado de equipos de litografía EUV en la Unión Europea es altamente concentrado en términos de panorama competitivo, donde ASML Holding N.V. es el actor principal con el 72.5% del segmento del mercado de equipos de litografía más amplio y casi el 100% del mercado de sistemas de escáner EUV comerciales. La razón de la posición líder de ASML en el mercado es una inversión enfocada en el desarrollo de tecnología EUV durante más de 20 años, que incluyó colaboraciones con los principales fabricantes de semiconductores, instituciones de investigación financiadas por el gobierno y proveedores de componentes.
  
• Coherent Corporation, después de la adquisición de sistemas y componentes láser coherentes, es líder en la tecnología de fuentes de luz de ultravioleta extremo. Los láseres de CO2 de alta potencia de la empresa son los componentes principales de las fuentes de plasma EUV producidas por láser (LPP), donde cada sistema necesita múltiples módulos láser que operan a niveles de potencia de kilovatios. Según Coherent Corporation, la posición de la empresa en el mercado se fortalece con el desarrollo continuo de tecnologías láser de próxima generación necesarias para sistemas EUV de alta NA.
  
• Trumpf SE + Co. KG, con su experiencia en láseres industriales y colaboraciones con desarrolladores de fuentes EUV, está en una buena posición para seguir desarrollando la tecnología láser necesaria para las fuentes EUV. La potencia máxima del sistema láser de la empresa lo convirtió en un componente determinante en la arquitectura de las fuentes EUV. Según los resultados de la investigación realizada en Trumpf, la empresa tiene un desarrollo en curso dirigido a la escalabilidad de potencia y mejoras de confiabilidad, que son necesarias para la fabricación en gran volumen.
  
• KLA Corporation es líder en equipos de metrología e inspección EUV, ayudando a proporcionar los sistemas de medición especializados necesarios para el control de procesos EUV y la optimización de rendimiento. Los sistemas de inspección actínica de KLA operan en longitudes de onda EUV para detectar defectos y medir dimensiones críticas con una precisión subnanométrica, por lo que pueden comandar precios muy altos debido a sus capacidades ultraprecisas según lo declarado por KLA Corporation.
  

Empresas del mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo

Las principales empresas destacadas que operan en el mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo (EUV) incluyen:

• ASML Holding N.V.
• Coherent Corporation
• Trumpf SE + Co. KG
• Jenoptik AG
• KLA Corporation
• Applied Materials, Inc.
• Lam Research Corporation
• Nikon Corporation
• Canon Inc.
• Gigaphoton Inc.
• NuFlare Technology, Inc.
• Lasertec Corporation
• Veeco Instruments Inc.
• SUSS MicroTec SE
• EV Group E. Thallner GmbH
• SET Corporation
• Oxford Instruments plc
• Plasma-Therm LLC
• Oxford Instruments plc
• Plasma-Therm LLC
  
  

Los principales actores en el mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo representan un ecosistema completo que va más allá de la integración de sistemas para incluir componentes críticos, materiales y servicios de soporte. La estructura del mercado refleja la naturaleza extremadamente especializada de la tecnología EUV y la larga cadena de suministro necesaria para entregar sistemas de litografía funcionales.

ASML Holding N.V. se destaca como el líder indiscutible en sistemas de escaneo EUV, con su serie TWINSCAN NXE que representa la generación actual de sistemas de producción EUV, mientras que el sistema TWINSCAN EXE:5000 High-NA define el próximo horizonte tecnológico. Coherent Corporation mantiene una posición crítica en la tecnología de fuentes de luz EUV a través de sus sistemas y componentes de láser de alta potencia. La experiencia de la empresa en láseres industriales permite los láseres CO2 de clase kilovatio requeridos para fuentes de plasma EUV producidas por láser (LPP)

Jenoptik AG ofrece componentes y sistemas ópticos de precisión que son integrales para el ecosistema EUV. Esto incluye ópticas especializadas y equipos de metrología. La tecnología de fabricación de precisión y sistemas ópticos de la empresa no solo ayuda al desarrollo de escáneres EUV, sino que también apoya los requisitos de metrología a nivel de fábrica.

Complementando los sistemas de litografía EUV, Applied Materials, Inc. ofrece equipos de proceso y soluciones de materiales que pueden integrarse sin problemas. Los movimientos estratégicos de la empresa incluyen la creación de procesos de deposición y grabado compatibles con EUV, el uso de materiales avanzados para aplicaciones EUV y el desarrollo de soluciones de proceso integradas que maximizan el rendimiento de EUV.

Veeco Instruments Inc., SUSS MicroTec SE, EV Group E. Thallner GmbH, SET Corporation, Oxford Instruments plc y Plasma-Therm LLC son los seis contribuyentes que facilitan la implementación y operación de la fábrica EUV con equipos de proceso especializados, sistemas de manejo de materiales y otras tecnologías complementarias.

Noticias de la industria de equipos de litografía de ultravioleta extremo

• En octubre de 2024, Coherent Corporation anunció el desarrollo de sistemas de láser CO2 de 50 kW para fuentes EUV de próxima generación, lo que representa un aumento de potencia del 2x sobre los sistemas actuales y permite la escalabilidad de potencia de la fuente requerida para la fabricación de EUV High-NA según Coherent Corporation.
  
• En marzo de 2024, Lasertec lanzó una nueva generación de su sistema de inspección de máscaras de ultravioleta extremo (EUV) actínico, el ACTIS A300. Este sistema es un componente crítico en la fabricación de semiconductores avanzados porque utiliza la misma longitud de onda de luz de 13,5 nm que la litografía EUV para detectar defectos.
  

El informe de investigación del mercado de equipos de litografía de ultravioleta extremo incluye una cobertura exhaustiva de la industria con estimaciones y pronósticos en términos de ingresos (USD miles de millones) y volumen (unidades) desde 2021 hasta 2034, para los siguientes segmentos:

Mercado, por tipo de tecnología

• Sistemas EUV estándar (NA 0.33)
  
  • Sistemas NXE:3400C
  • Sistemas NXE:3600D
  • Sistemas NXE:3800E 
• Sistemas EUV High-NA (NA 0.55)  
  
  • Sistemas EXE:5000
  • Sistemas EXE:5200B
  • Sistemas High-NA de próxima generación

Mercado, por tipo de equipo

• Escáneres EUV       
• Sistemas ópticos de EUV        
  • Sistemas de iluminación
  • Óptica de proyección
  • Sistemas de espejos y recubrimientos multicapa 
• Fuentes de luz EUV
  • Sistemas de láser de CO2
  • Equipos de generación de plasma
  • Sistemas de acondicionamiento de potencia
• Mascara y soportes EUV        
  • Soportes de sustrato de máscara
  • Sistemas de película
  • Equipos de fabricación de máscaras
• Equipos de metrología e inspección EUV 
  • Sistemas de inspección de defectos
  • Sistemas de metrología de superposición
  • Sistemas de medición de dimensiones críticas
• Sistemas de soporte EUV       
  • Sistemas de vacío
  • Equipos de abatimiento
  • Sistemas de control ambiental
• Software y sistemas computacionales EUV
  • Software de litografía computacional
  • Software de control de proceso
  • Software de diseño de máscaras

Mercado, por aplicación de nodo tecnológico  

• Nodo lógico de 7nm   
• Nodo lógico de 5nm   
• Nodo lógico de 3nm   
• Nodo lógico de 2nm   
• Nodos lógicos sub-2nm      
• DRAM avanzado (clase 10nm y por debajo)  
• NAND Flash avanzado     

Mercado, por tipo de uso final     

• Fundiciones puras         
• Fabricantes de dispositivos integrados (IDM)
• Fabricantes de memoria  

Mercado, por industria de uso final

• Móvil y electrónica de consumo  
• Semiconductores para automoción       
• Inteligencia artificial y aprendizaje automático          
• Centro de datos y computación de alto rendimiento     
• Infraestructura de 5G y telecomunicaciones           
• Aplicaciones industriales e IoT       
• Aeroespacial y defensa                  

La información anterior se proporciona para las siguientes regiones y países:

• América del Norte
  • EE. UU.
  • Canadá
• Europa
  • Reino Unido
  • Alemania
  • Francia
  • Italia
  • España
  • Rusia
• Asia Pacífico
  • China
  • India
  • Japón
  • Corea del Sur
  • ANZ 
• América Latina
  • Brasil
  • México 
• MEA
  • EAU
  • Arabia Saudita
  • Sudáfrica