半導体用 ICP-MS システム市場 サイズとシェア 2026-2035

半導体 ICP-MS システム市場の規模

半導体 ICP-MS システム市場は、2025年に1億9,860万米ドル、2026年に2億820万米ドルと推定され、2026〜2035年にかけて年平均成長率（CAGR）5.73%で拡大し、2035年には3億4,390万米ドルに達すると予測されている。

半導体製造では、微量金属分析が定期的な実験室作業ではなく、歩留まりを守るための機能へと変化している。金属汚染は、ウェハー基板、湿式化学薬品、超純水（UPW）、CMPスラリー、プロセスガス、チャンバー部品などに起因する可能性があり、リーク、誘電体故障、欠陥の一因となり得る。業界文書では、金属汚染が歩留まり損失の重大な要因であると特定されており、電子グレードシリコンに求められる純度は 9N から 11N に及ぶと説明されている。そのため、分析システムの選定では、感度、回収率の管理、マトリックス管理が中核的な要素となっている^{[1]Agilent Technologies, Measuring Inorganic Impurities in Semiconductor Manufacturing, agilent.com.}。SEMI M85 はシリコンウェハー表面の微量金属を対象とする気相分解 ICP-MS 手順を規定しており、SEMI F63 は半導体プロセス向け超純水（UPW）の品質要件を定めている^{[2]Glenn Woods, Agilent Technologies, Aqueous-based Applications of ICP-QQQ in Semiconductor Manufacturing, The ICP-MS Journal, agilent.com.}。

需要は、半導体投資の発表が分析ラボの整備へと具体化することで変化している。新設ファブでは、安定したウェハー生産を実現する前に、搬入材料の認定、ウェハー表面のモニタリング、超純水（UPW）の監視、装置部品の検証が必要となる。そのため、米国の CHIPS プログラム、欧州における国家補助の承認、中国の生産能力投資、インドで進むファブ計画は、単一の地域更新市場ではなく、それぞれ異なる導入サイクルを生み出している^{[3]Agilent Technologies, ICP-MS for Semiconductor Cleaning and Surface Preparation, agilent.com.}。同時に、より複雑な材料への移行と汚染限度の厳格化により、濃酸やシリコンを多く含むマトリックスにおける困難なスペクトル干渉を管理できるトリプル四重極システムへ、付加価値の高い用途が移行している^{[4]SEMI, SEMI F61 - Guide to Design and Operation of a Semiconductor Ultrapure Water System, semi.org.}。

アジア太平洋地域は、2025年に6,833万米ドルで市場をリードしており、中国の製造拠点拡大と、台湾、韓国、日本に確立された製造エコシステムに支えられ、6.75%の成長率で拡大すると予測されている。北米の市場規模は5,821万米ドルで、6.38%の成長率が見込まれる。一方、欧州は4,154万米ドルで、5.00%の成長率で拡大すると予想されている。ラテンアメリカは1,082万米ドルで、成長率は1.84%となった。中東・アフリカの市場規模は1,972万米ドルで、CAGR は3.06%である。地域間の差異は、最先端ウェハー製造がアジア、米国、欧州に集中していることを反映している。それ以外の地域では、研究、産業用ラボ、エレクトロニクス周辺分野の品質管理に需要がより大きく偏っている。

技術構成が変化している背景には、広範な自動化需要よりも、より具体的な要因がある。シングル四重極プラットフォームは、確立された高スループットの化学分析および UPW ワークフローでは依然として経済性に優れている。一方、先端材料や高濃度のプロセス薬品では多原子干渉が生じるため、通常のコリジョンセル運用だけでは必ずしも分離できない。トリプル四重極システムは、干渉制御能力によって希釈、再処理、または別途の確認分析を回避できる分野でシェアを拡大している。その結果、市場は二極化している。数量ベースでは定常的なスクリーニングが引き続き中心となる一方、技術面での価格決定力は、ウェハー認定および高マトリックス半導体薬品に対応するシステムに集中している。

主な成長要因

先端半導体製造施設の拡大

新設ファブは、材料およびプロセスツールを量産向けに認定する前に、汚染管理能力を整備しなければならない。この要件により、ICP-MS の複数の用途で同時に需要が生まれる。具体的には、受入時の酸および溶剤のスクリーニング、UPW モニタリング、ウェハー表面残留物の測定、チャンバー部品の評価などである。米国では、CHIPSおよび科学法により、製造奨励金 390億米ドルが提供され、半導体の研究開発が支援されている。また、投資税額控除の枠組みにより、適格製造設備の取得コストが引き下げられる。Micron がアイダホ州およびニューヨーク州のプロジェクトで受けた CHIPS 関連の助成は、新たな米国メモリーファブへの投資規模を示す事例であり、支援用分析インフラを必要とする計画クリーンルーム能力も含まれている^{[5]SEMI, Newly Published Standard for Measurement of Particle Precursors in Ultrapure Water, September 2023, semi.org.}。

欧州のプロジェクトも、地理的には集中しているものの、これに匹敵する需要源となっている。欧州委員会は 2025年2月、ドレスデンで Infineon が進める MEGAFAB-DD プロジェクトに対し、9億2,000万ユーロの国家補助を承認した^{[6]Kazuhiro Sakai, Agilent Technologies, Enhancing the 8900 ICP-QQQ with Pure Gases and SPS 6 Autosampler, The ICP-MS Journal, agilent.com.}。ESMC のドレスデン施設は、承認済みのドイツ政府補助金 50億ユーロを受け、2027年に生産を開始する予定である。GlobalFoundries も 2025年10月、ドレスデンで 11億ユーロの拡張計画を発表し、2028年末までに年間 100万枚を超えるウェハー生産能力を目標としている。これらのプロジェクトでは、ウェハー生産が拡大する前から調達機会が生まれる。これは、分析手法およびクリーンルーム対応ワークフローについて、施設の稼働開始時に検証が必要となるためである。

超微量汚染分析の需要拡大

デバイスの微細化に伴い、溶解性汚染物質と粒子状汚染物質の双方に対する許容度が低下している。SEMI M85は、シリコンウェーハ表面分析向けの気相分解ICP-MS手順を定めており、ナトリウム、鉄、銅、ニッケル、亜鉛などの重要な金属元素を対象に含めている。この手法が商業的に重要なのは、汚染モニタリングをオフラインの材料特性評価ではなく、ウェーハのリリースおよびプロセス歩留まり管理に直接結び付けるためである。

高マトリックスの化学薬品では、タンデム質量分析の価値が高まっている。Agilentは、汚染を引き起こす可能性のある希釈工程を用いずに干渉を制御するよう設計されたICP-QQQワークフローによる、濃縮半導体用酸の直接分析について説明している。Thermo Fisherも同様に、コールドプラズマ、運動エネルギー弁別、MS/MS測定を組み合わせ、分析対象成分とマトリックスの組み合わせが難しい半導体用途向けのマルチモードICP-MS/MSワークフローを紹介している^{[7]SEMI, Liquid Chemicals Standards for Semiconductor Manufacturing, semi.org.}。その結果、ファブや化学品サプライヤーがますます複雑化するプロセス薬品を認定する際、スループットと感度のどちらかを犠牲にする必要性が低減する。

国内半導体製造への政府投資

各国の半導体プログラムは、これまで輸入チップへの依存度が高かった地域での製造能力増強を促すため、分析機器需要の地理的分布を変化させている。米国のインセンティブに加え、欧州では、Infineonのドレスデン施設やSTMicroelectronicsのイタリアにおける炭化ケイ素キャンパスなど、戦略的プロジェクトへの支援が行われている。こうしたプログラムが直ちにICP-MSの受注を保証するわけではないが、分析需要の源泉となる建設、稼働開始、サプライヤー認定のパイプラインを形成する。

中国では、国内生産能力の拡大と現地の分析機器代替品の開発が同時に進んでいるため、引き続き別個の成長源となっている。米中経済・安全保障調査委員会の分析は、中国政府が支援する半導体産業政策の規模を明らかにしている。インドでは、Tata ElectronicsとPSMCが2024年9月、グジャラート州ドレラでのファブプロジェクトに関する技術移転契約を完了した。これが商業面で意味するのは、ベンダーが政策主導の需要を一様に扱うことはできないという点である。同じ公的投資であっても、設置済み機器の基盤を拡大する一方で、現地調達要件、サービス要件、調達選好を変化させる可能性がある。

半導体用化学薬品および超純水に対する純度要件の高まり

純度仕様により、化学分析は生産における継続的な要件となっている。SEMI F63は半導体プロセスで使用される超純水（UPW）に関する指針を示し、ASTM D5127は電子・半導体産業向けの超純水を対象としている^{[8]Glenn Woods, Agilent Technologies, High-purity Organics by ICP-QQQ, The ICP-MS Journal, agilent.com.}。実際には、サプライヤーとファブは酸、溶剤、酸化剤、水処理システム全体で汚染制御を実証する必要があるため、新たな分析機器の設置が完了した後も、日常的な分析機器の稼働率は高く維持される。

課題は、単により多くの元素を検出することではない。濃硝酸、塩酸、硫酸、シリコン含有マトリックスは、それぞれ異なる干渉パターンを生じさせる。トリプル四重極システムは、制御された反応と質量シフトの手法を用いて、干渉種から対象分析成分を識別する。これにより、従来のスクリーニングワークフローでは結果が曖昧になり得るマトリックスにおいても、測定結果の信頼性が向上する。この機能により、機器選定の基準は、主に検出限界仕様に基づくものから、妥当性が確認された半導体分析手法とマトリックス固有の稼働時間に基づくものへと移行している。

半導体品質管理における自動化の進展

自動化により、サンプリング、データ生成、プロセス応答の間に生じる遅延が短縮されます。Revvityは、同社のNexION 5000プラットフォームに基づく、ウェハ表面の金属不純物分析向けの完全自動VPD-ICP-MSワークフローについて説明しており、通常のオペレーター介入なしでの連続稼働を可能にしています。自動化された試料前処理により、微量金属汚染が混入する可能性のある手作業による取り扱い工程の数も削減されます。

ソフトウェアは、ラボの生産性を高める第2の手段になりつつあります。Thermo FisherのReaction Finderは、ICP-MS/MSワークフローにおいて個々の分析対象物に対するモード選択を自動化します。一方、ShimadzuのICPMS-2030は、アルゴン消費量の削減と、メソッド開発および結果レビューを支援することを目的としたソフトウェア機能を組み合わせています。これらのツールは、半導体分析に関する専門知識の必要性をなくすものではありません。むしろ、メソッド実行のうち反復可能な部分を標準化し、新たな分析ラボの立ち上げに要する時間を短縮できます。

主な抑制要因

半導体向けICP-MSシステムの高額な設備投資および運用コスト

半導体対応システムには、標準的な質量分析計以上の要件が求められます。クリーンルーム対応ポンプ、耐腐食性コーン、高純度の試料導入部品、自動化ハードウェア、半導体向けメソッドのバリデーションなどが、導入および適格性評価の負担を増大させます。コスト差が最も顕著になるのは、トリプル四重極システムと自動VPD設備です。これらは、回避される歩留まりリスクまたは顧客の認定要件が追加の設備投資を大幅に上回る場合にのみ、導入が正当化されることが多くなっています。

運用面の経済性も重要です。ICP-MSプラットフォームは高純度アルゴンを継続的に消費するため、24時間体制のワークフローを運用する施設では、ガス使用量が重要なコスト要因になります。Shimadzuによると、ICPMS-2030のミニトーチ構成ではアルゴン使用量が約11 L/minであり、ライフサイクルコストの比較においてガス消費量が重要な項目となっている理由を示しています。同様に、Analytik Jenaも、PlasmaQuant MSシリーズの運用コストに関わる特性として低アルゴン運転を位置付けています。そのため、小規模な化学品サプライヤーや独立系ラボでは、フル仕様の高性能構成を導入する代わりに、低コストのスクリーニングシステムを使い続けるか、専門分析を外部委託する可能性があります。

複雑な試料前処理および熟練した分析専門人材の不足

ウェハ表面分析には、高感度な検出だけでなく、管理された前処理も必要です。SEMI M85のVPDワークフローでは、気相による酸化膜除去、生成した液滴の回収、汚染管理下での取り扱いが行われます。回収率やブランク性能は、オペレーターの技術およびメソッド条件の影響を受ける可能性があります。半導体用化学品を直接分析する場合は、別の課題が生じます。分析担当者は、各マトリックスに適したプラズマ条件、衝突ガスまたは反応ガス、校正方法、干渉制御モードを選択しなければなりません。

人材面の問題は、プロセス組織と並行して分析チームが編成される新設施設で最も深刻になります。IEEEを通じて公表された技術調査は、リソグラフィ用化学品における金属汚染を追跡するために、ICP-MSと半導体プロセスに関する知識を組み合わせた専門性が必要であることを示しています。

アプリケーション開発、検証済み手法、自動化、現地サービスを提供するベンダーは、この制約を競争優位に転換できる一方、購入者は社内で専門知識を構築するか、専門性を持つ外部ラボを利用するかというトレードオフに直面します。

自動化はこの障壁を取り除くのではなく、低減しています。自動化されたVPDおよび薬品前処理システムにより、回収性能の再現性を高め、手作業による汚染機会を抑制できますが、ファブには依然として、特異なマトリックスを調査し、干渉挙動を解釈し、微量金属データをプロセス条件と関連付けられる専門家が必要です。そのため、最も有力なサプライヤー提案は、ハードウェア、半導体に特化した手法、アプリケーションサポート、現地サービス能力を組み合わせた提供となります。このパッケージは、立ち上げ速度が施設の生産能力拡大スケジュールに直接影響する新設市場において、特に高い価値を持ちます。

半導体ICP-MSシステム市場のセグメント分析

製品タイプ

シングル四重極ICP-MSは最大の製品セグメントであり、2025年の市場規模は8,622万米ドル、市場シェアは43.4%に達しました。今後は年平均成長率（CAGR）5.88%で拡大すると予測されます。この地位は、高スループットの定常スクリーニングにおける経済性を反映しています。化学品サプライヤーやファブラボでは、確立されたコリジョンセル、クールプラズマ、またはマトリックス希釈法によって十分な信頼性が得られる場合、定義された分析対象元素パネルにシングル四重極システムを使用できます。Agilentの半導体向けアプリケーション資料は、より高度な用途がICP-MS/MSへ移行するなかでも、これらのシステムが化学品およびウェハーの分析ワークフローで幅広く利用され続ける理由を示しています。

トリプル四重極ICP-MS/ICP-MS/MSの市場規模は6,623万米ドルで、2025年の市場の33.3%を占めました。今後は6.84%の成長率で最も速く拡大すると予測されます。この構成では、コリジョン・リアクションセルの前後に2つの質量フィルターを配置し、前駆イオンと生成イオンを選択することで、複雑なマトリックスにおける干渉除去性能を高めます。これは、バックグラウンドや多原子イオン干渉が従来分析の制約となり得るシリコン、硫黄、リンなどの元素に特に関連します。Agilentの8900、Thermo FisherのiCAP TQs、RevvityのNexION 5000は、半導体に特化した干渉制御、自動シーケンス、クリーンルーム対応構成に対する各サプライヤーの注力を示しています。

セクターフィールド／高分解能ICP-MSの市場規模は、2025年に2,918万米ドルとなり、市場の14.7%を占めました。今後は4.45%の成長率で拡大すると予測されます。磁場セクター型システムは、高い質量分解能、同位体比の精度、参照法に基づく分析を必要とする用途に適しています。半導体分野での用途は、高生産量のファブにおけるプロセス制御よりも、化合物半導体の特性評価、先端材料研究、分析手法の検証に集中しています。

マルチコレクター ICP-MS は 2025 年市場の 1,700 万米ドル（8.6%）を占め、1.95% の成長率が見込まれる。これらのシステムは、汚染源の追跡や材料研究など、専門的な同位体比分析に対応する。Nu Instruments の Plasma 3 は、複数のファラデー検出器およびイオン計数検出器を用いた同時測定など、この層に求められる高精度なマルチコレクター機能を実証している。需要は安定しているものの、四重極ベースのシステムと同じ形で日常的な化学分析に伴って拡大するわけではない。

技術

四重極技術は主要な技術カテゴリーであり、シングル四重極システムおよびトリプル四重極システムを包含し、2025 年の市場構成のおよそ 76.7% を占める。このプラットフォームは、スキャン速度、多元素分析範囲、運用の複雑さ、設備投資コストのバランスに優れている。商業的に重要な理由は、半導体ワークフローの両端に対応できる点にある。具体的には、シングル四重極装置による日常的な化学分析および超純水（UPW）スクリーニングと、タンデム質量分析による難易度の高い高マトリックス試料の分析に対応する。

磁場セクター技術は主に SF/HR-ICP-MS 製品層に該当し、市場のおよそ 14.7% を占める。この技術は、反応化学ではなく高質量分解能によって干渉イオンを分離するため、処理能力よりも同位体精度および分析手法のトレーサビリティが重視される場合に有用である。成長が限定的なのは、技術的な重要性がないためではなく、専門的な研究およびバリデーション環境で使用されることが多いためである。

約 8.6% を占めるその他の技術には、専門的な材料分析および粒子分析のワークフローで使用される MC-ICP-MS や、新たなフルスペクトラム方式が含まれる。これらのシステムは、過渡的な信号や同位体間の関係が重要となる場合に有用である一方、専門性が高いため、日常的なファブのラボ全体への導入は限定される。

用途

半導体グレード化学品分析は最大の用途であり、2025 年市場で 7,232 万米ドル、36.4% を占め、年平均成長率（CAGR）は 5.91% と予測される。このセグメントには、厳格な汚染仕様に照らした鉱酸、溶剤、酸化剤、前駆体、洗浄用薬品の適格性評価が含まれる。分析量が多い背景には、受入材料の管理対象が広範であることに加え、保管、移送、使用の各段階を通じて試薬の品質が維持されていることを確認する必要性がある。Revvity は、半導体グレード化学品を対象として、濃縮マトリックス中での希釈、酸性化、スパイク添加の工程に対応する自動調製・分析ワークフローを説明している。

ウェハー・シリコン材料分析は 4,563 万米ドル（23.0%）を占め、7.85% の成長率が予測されており、用途別では最も高い CAGR を示す。VPD-ICP-MS は、SEMI M85 が定める枠組みに基づき、ウェハー表面の微量金属を定量する直接的な手段となる。Fraunhofer IPMS は 200 mm および 300 mm ウェハーの特性評価を行う VPD-ICP-MS ラボを運営しており、商用および研究用ウェハーのエコシステムにおいて、専用の分析能力が果たす役割を示している。さらに、SiC、GaN およびその他の化合物半導体材料の普及も成長を下支えしている。これらの材料には、従来のシリコン以外のマトリックスに対応した分析手法が必要となる。

プロセスガス分析は 2,764 万米ドル（13.9%）を占め、市場の 4.61% の成長が予測される。汚染物質は、ボンベ、継手、配管、バルブを通じてガス供給システムに侵入する可能性があり、液体化学品にとどまらない分析ニーズを生み出す。HORIBA の半導体向けポートフォリオは、プロセスモニタリングおよびガス分析のインフラを網羅しており、ファブの汚染管理ワークフローに対する補完的な導入経路を提供する。

CMP スラリー・ナノ粒子分析は 2,254 万米ドル（11.3%）を占め、4.41% の成長率で拡大すると予測される。CMP スラリーには、溶解した化学成分とともに設計された研磨剤が含まれるため、意図された粒子と金属汚染物質を区別する必要がある。

Agilentの単一粒子 ICP-MSアプリケーションに関する取り組みは、半導体プロセス薬品中の溶存金属と粒子の濃度、サイズ、組成を同時に評価できることを示している。この能力は、溶存金属分析だけでは粒子に起因する欠陥を診断できない場面で、ますます重要になっている。

超純水（UPW）分析、クリーンルームおよびプロセス環境モニタリング、研究開発を合わせると、2025年市場の約3,050万米ドル、15.4%を占め、成長率は3.52%となった。半導体の水質ガイドラインの下で、UPW分析は継続的な生産要件となっている。研究・分析サービス研究所は、手法開発、ウェーハ認定、前駆体の特性評価、紛争解決を支えている。Fraunhofer CSPのSilaPureに関する取り組みは、半導体材料研究に関連する塩素化オリゴシランの生産で、高分解能微量元素分析を活用する例である。

最終ユーザー

統合デバイスメーカーは最終ユーザーとして最大の位置を占め、2025年市場では7,232万米ドル、36.4%を構成し、成長率は5.91%と予測される。垂直統合型の製造モデルにより、単一の組織がウェーハ製造、受入材料の認定、プロセス保証を管理するため、社内の幅広い導入が可能となる。新設の IDM 施設では、単一の汎用プラットフォームではなく、異なる構成の複数システムが必要となる場合がある。

半導体ファウンドリーは2025年に5,861万米ドル、29.5%を生み出し、成長率は7.08%と予測される。これは最終ユーザー別で最も高い年平均成長率である。ファウンドリーは顧客ごとに異なるプロセス要件に対応する必要があるため、手法の幅、トレーサビリティ、汚染管理の一貫性がより重要となる。SMICの年次決算開示では、8インチおよび12インチの製造基盤を継続的に拡大していることが確認されている。一方、ESMCが計画するドレスデンでの立ち上げにより、欧州における先端ファウンドリー能力が拡大する。これらのプロジェクトは、難しいマトリックスや顧客の認定要件に対応できるシステムに対する高付加価値需要を支える。

半導体材料・化学品サプライヤーは2,809万米ドル、14.1%を占め、成長率は4.85%と予測される。サプライヤーは材料が半導体工場に到達する前に純度を認証する必要があるため、最高仕様の達成だけでなく、日常的な分析処理能力と再現性がより重要となる。GlobalWafersがミズーリ州の施設向けに受けたCHIPS助成は、ウェーハサプライチェーンへの投資が、表面認定および化学分析能力に対する関連需要を創出し得ることを示している。

独立系試験・分析研究所と研究・学術機関を合わせると、2025年に3,961万米ドル、19.9%を生み出し、成長率は3.72%と予測される。これらのユーザーは、購入企業が分析チームを完全に社内で維持していない場合に、外部委託による認定、専門的な手法開発、材料研究を担う。新たな先端半導体工場では、社内分析研究所向けにスペースと資本を配分するケースが増えているため、これらのユーザーの成長は鈍化している。ただし、検証、専門試験、新規材料の用途において、依然として重要な役割を果たしている。

単一四重極型への需要は、同市場が最高性能のプラットフォームへ一様に移行するわけではないため、依然として商業的に重要である。日常的な化学スクリーニング、確立された超純水（UPW）ワークフロー、成熟した研究所では、依然として導入コストの低さと高い処理能力が評価されている。そのため、サプライヤーには2つの異なる商業モデルが必要となる。1つは、先端ファブや技術的に難しいマトリックス向けの、アプリケーションを充実させた性能主導型の販売であり、もう1つは、日常的なスクリーニング向けの、サービス効率とコストを重視した販売である。工程の複雑化に伴い顧客をこれらの層の間で移行させられるベンダーが、既存設備基盤の価値を守るうえで最も有利な立場にある。

半導体ICP-MSシステム市場の地域別分析

北米

北米の市場規模は2025年に5,821万米ドルとなり、年平均成長率（CAGR）6.38%で拡大すると予測される。米国の市場規模は4,591万米ドルで、CHIPSプログラムに基づく新たな半導体製造プロジェクトと国内サプライチェーンへの投資を背景に、7.09%の成長が見込まれる。ファブでは大量生産の開始前に認証メソッドを確立する必要があるため、建設から生産立ち上げまでの全期間で分析需要が生じる。自動試料導入装置のサプライヤーも同地域で重要な役割を担っており、RevvityのprepFAST Sワークフローは半導体グレードの化学品を自動分析するよう設計されている。

カナダの市場規模は2025年に1,230万米ドルとなり、CAGRは3.20%であった。同国の市場は、大規模な先端ウェハー製造よりも、分析機器の開発、研究、電子機器受託製造サービス、化学品試験への依存度が高い。Aurora Biomedは、分光分析および試料前処理の製品ラインを通じて、元素分析および研究所自動化市場に参入している。

欧州

欧州の市場規模は2025年に4,154万米ドルとなり、5.00%の成長が予測される。ドイツの市場規模は1,923万米ドルで、6.35%の成長が見込まれており、ドレスデンは同地域で最も明確な先端ファブプロジェクトの集積地となっている。ESMC、InfineonのMEGAFAB-DD、GlobalFoundriesのProject SPRINTが組み合わさることで、分析ラボ向け調達およびサービス需要の複数年にわたるパイプラインが形成される。Fraunhofer IPMSは、VPD-ICP-MSサービスを通じて地域内のウェハー分析能力を高めており、工業生産と専門的な分析支援との結び付きを強化している。

その他の欧州の市場規模は2025年に2,231万米ドルとなった。フランスでは、STMicroelectronicsとGlobalFoundriesによるCrollesプロジェクトへの支援など、半導体製造活動の恩恵を受けている。イタリアでは、STMicroelectronicsがカターニアでSiC一貫製造施設を開発しており、承認されたイタリアの支援を受けているため、炭化ケイ素への投資が特に重要である ^{[9]SEMI, SEMI F123 - Guide for Meeting IRDS Yield Table Recommendations for High Purity Polymer Materials and Components Used in Ultrapure Water, semi.org.}。英国では、Nu Instrumentsの高分解能プラットフォームやマルチコレクタープラットフォームなど、専門機器の生産が引き続き重要である。一方、欧州の日常分析需要にはSPECTROとAnalytik Jenaも対応している。

アジア太平洋

アジア太平洋は最大の市場であり、2025年の市場規模は6,833万米ドルとなり、6.75%の成長が予測される。中国の市場規模は4,766万米ドルで、約8.5%の成長が見込まれる。同市場では、大規模なファブ基盤、成熟ノードの継続的な拡張、国内分析機器サプライヤーの育成が進んでいる。Digitimesは、2027年までに中国の12インチ生産能力向け設備への投資が1,000億米ドルを超えると報じている。また、SMICの2024年年次決算では、同社の製造拠点全体で生産能力の拡張が継続していることが示されている。

Focused Photonics傘下のEXPEC Technologyは、国内の技術力の変化を示す一例である。同社の7350S Plus ICP-MS/MSは、シリコンおよび炭化ケイ素ウェハーの分析、電子化学品、特殊ガスなど、半導体用途向けに位置付けられている。競争面での影響はまず中国国内市場に集中しており、日常的な用途や中位グレードの用途では、現地でのサービス、調達との整合性、低コストの代替製品が大きな意味を持つ可能性がある。

その他アジア太平洋地域の市場規模は 2025 年に 2,067 万米ドルに達し、日本、韓国、インド、オーストラリア、東南アジアが含まれる。日本と韓国には、高度な半導体・材料エコシステムがあり、製造拠点内での高度な分析需要を支えている。インドは新規開拓型の機会を有している。Tata ElectronicsとPSMCの合意により、将来的な半導体工場への設備導入サイクルが生まれるほか、ATONARPが経済産業省の支援を受けて実施する、インドの半導体装置市場向け質量分析センサーの評価は、現地での分析技術導入への関心を示している。HORIBAが計画するナグプールのマスフローコントローラー施設も、半導体装置の供給能力がインドのサプライチェーンへ移行していることをさらに示している。

ラテンアメリカ

ラテンアメリカの市場規模は 2025 年に 1,082 万米ドルに達し、1.84%の成長率が予測されている。ブラジル、メキシコ、アルゼンチンでは、産業用研究所、電子機器製造受託サービス、鉱業、材料試験、大学研究が需要を支えている。半導体関連の用途は、最先端ウェハー製造よりも、受入材料試験や組立・テスト関連の品質業務に集中している。このバリューチェーン上の位置付けが、成長率の低さにつながっている。アジア、北米、欧州で ICP-MS の複数台導入を促す新規半導体工場の建設サイクルに対し、同地域は当面の関与が限定的だからである。

中東・アフリカ

中東・アフリカの市場規模は 2025 年に 1,972 万米ドルに達し、3.06%の成長率が予測されている。現在の需要は主に、産業、石油化学、鉱業、水処理、材料分析の用途に支えられており、半導体関連の用途は研究および新興技術プログラムに集中している。アラブ首長国連邦とサウジアラビアは技術・産業能力の構築を進めている一方、南アフリカでは鉱業・冶金分野と結び付いた分析市場が確立されている。同地域では、近い将来にアジア、北米、欧州と同等の最先端半導体工場建設が見込まれないため、半導体向け ICP-MS の機会は、生産工場の認定よりも研究、材料開発、電子機器関連の試験に依存する度合いが高い。

戦略面で地域間の緊張が最も顕著なのは中国である。設備能力への投資が分析機器の需要を支える一方、国内サプライヤーは半導体に特化した用途への対応力を高めている。検証済みの高マトリックス試料向け手法、多国籍のサービス網、高度な自動化が決定的となる領域では、グローバルベンダーが優位性を維持するだろう。しかし、定常的なスクリーニングや現地での調達支援では、国内サプライヤーがその差を縮める可能性がある。インドはこれとは異なる機会を提供する。初期の半導体工場プロジェクトでは、幅広い既存設置基盤の規模よりも、初期段階でのアプリケーション支援とサービスインフラの価値が高い。サプライヤーとの関係は、研究所の設計および稼働開始時に構築される可能性が高いためである。

半導体 ICP-MS システム市場のシェアと競争環境

この市場は、成熟した半導体分析手法と幅広いサービス能力を有するサプライヤーに集中している。Agilent Technologies は 2025 年市場の 21.3% を占め、Thermo Fisher Scientific が 17.5%、Revvity が 13.4%、HORIBA Scientific が 9.7%、SPECTRO Analytical Instruments が 6.5% で続いた。その他の参加企業は合計で 31.6% を占めた。競争力を左右するのは、分析が難しい半導体マトリックスにおけるアプリケーション性能、自動化への対応、クリーンルームへの適合性、分析手法のサポート、ならびに分析結果をラボおよび半導体工場の制御ワークフローに統合する能力である。

Agilent Technologies は、半導体に特化した 8900 ICP-QQQ 構成と、ウェハー VPD 分析、UPW、高濃度酸、ナノ粒子特性評価に及ぶ豊富なアプリケーション実績に支えられ、最大のシェアを占めた。Agilent の 2024 年度売上高は 65.1 億米ドルであり、幅広いアプリケーションおよびサービス組織を維持できる事業規模を有している。半導体ユーザーにとって重要な優位性は、分析手法の継続性である。半導体工場が複数の材料や工程にわたって妥当性を確認したワークフローを採用している場合、それらを置き換えるには多大なコストがかかる可能性がある。

Thermo Fisher Scientific は、iCAP ICP-MS ポートフォリオ、特にマルチモード半導体分析向けの iCAP TQs プラットフォームを通じて競争している。同社の半導体材料向け資料では、高純度硝酸中の幅広い分析対象元素に対してサブ ng/L の分析能力を示しており、Reaction Finder による自動モード選択にも対応している。iCAP RQ はルーチンアプリケーションを支えるため、Thermo Fisher は共通のサプライヤー関係を通じて、スクリーニングからより高度なタンデム MS ワークフローまで対応できる。

最近の業界動向

• 2025年8月：ATONARP は、日本の経済産業省（METI）の「グローバルサウス未来志向型共創等事業」における採択企業として選定され、インドの半導体製造装置市場で質量分析センサーの導入を評価することを発表した。
• 2025年：STMicroelectronics は、イタリア・カターニアにおける炭化ケイ素一貫製造施設の計画を前進させた。欧州委員会は、このプロジェクトに対するイタリア政府の 20 億ユーロの支援を承認していた。
• 2026年：Fraunhofer IPMS は、200 mm および 300 mm ウェハー表面向けの VPD-ICP-MS 機能を追加し、ウェハー分析サービスを拡充した。